Medias partes Productos de tambor Parte epitaxial

Semicera es un proveedor profesional de componentes avanzados de cerámica y grafito recubierto para equipos semiconductores. Nuestro Piezas de grafito recubiertas de SiC para equipos epitaxiales de SiC están diseñados para su uso en la cámara de reacción de sistemas de epitaxia de SiC, proporcionando un rendimiento estable en entornos de proceso corrosivos y de alta temperatura.

Estas piezas están hechas de grafito de alta pureza con un recubrimiento de carburo de silicio (SiC), que mejora la dureza de la superficie, la resistencia a la oxidación y el control de partículas, lo que garantiza una larga vida útil y condiciones de proceso estables.

Descripción

Semicera es un proveedor profesional de componentes avanzados de grafito recubierto para equipos semiconductores. Nuestro Pieza de media luna de grafito recubierta de SiC es un componente estructural clave utilizado en equipos epitaxiales de SiC y otras cámaras de proceso de semiconductores de alta temperatura.

Utilizando tecnología de recubrimiento avanzada, el producto se fabrica con grafito de alta pureza como material base y un recubrimiento uniforme de carburo de silicio (SiC) en la superficie. Esto garantiza una excelente estabilidad, una larga vida útil y un rendimiento confiable en entornos de proceso hostiles.

El diseño de media luna se utiliza principalmente dentro de la cámara de reacción para respaldar la estabilidad del proceso y ayudar a mantener condiciones térmicas y de flujo de gas uniformes. No entra en contacto directo con la oblea.

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Características clave

  • Material base de grafito de alta pureza
  • Recubrimiento de SiC uniforme y denso
  • Excelente resistencia química
  • Alta estabilidad térmica en ambientes de alta temperatura.
  • Larga vida útil con generación reducida de partículas
  • Rendimiento estable en procesos epitaxiales de SiC.

Solicitud

  • Cámaras de reacción de equipos epitaxiales de SiC.
  • Sistemas de proceso semiconductores de alta temperatura.
  • Componentes estructurales y de soporte de la cámara interna.
  • Estructuras de control de flujo térmico y de gas.

Lugar de trabajo Semicera

Lugar de trabajo semicera 2

maquina de equipo

Procesamiento CNN, limpieza química, recubrimiento CVD

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