La cerámica de alúmina (Al₂O₃) es una cerámica de ingeniería avanzada compuesta principalmente de óxido de aluminio. Ofrece un excelente aislamiento eléctrico, alta resistencia mecánica, excelente resistencia al desgaste y estabilidad térmica superior. Debido a su excelente rendimiento en entornos de alta temperatura, corrosivos y de alta pureza, la cerámica de alúmina se usa ampliamente en equipos semiconductores como anillos aislantes, componentes de cámaras y otras piezas estructurales críticas.
Anillo aislante de cerámica semiconductor es un componente cerámico de alta pureza utilizado en equipos de fabricación de semiconductores para proporcionar aislamiento eléctrico, estabilidad térmica y control de la contaminación. Fabricado con materiales cerámicos avanzados como Alúmina (Al₂O₃), circonita (ZrO₂) o nitruro de aluminio (AlN) , es ampliamente utilizado en Grabado por plasma, CVD, PVD, difusión y sistemas de procesamiento de obleas.

Alta resistencia mecánica: Alta dureza, resistencia al desgaste y larga vida útil.
Alta pureza y baja generación de partículas: Él Minimiza el riesgo de contaminación y cumple con los requisitos de salas blancas de semiconductores.

Industria de semiconductores
Equipo de grabado por plasma
Sistemas CVD/PVD
Hornos de difusión y oxidación
Equipo de implantación de iones
Conjuntos de mandriles electrostáticos
Equipo de procesamiento de obleas
Industria Electrónica
Componentes de aislamiento eléctrico
Estructuras de aislamiento de alto voltaje
Equipos industriales
Sistemas de vacío
Equipos de procesamiento de alta temperatura
Componentes aislantes de precisión
