Disco epitaxial de silicio monocristalino recubierto de SiC semiconductor

Semicera Energy Technology Co., Ltd. es un proveedor líder especializado en obleas y consumibles semiconductores avanzados. Estamos dedicados a proporcionar productos innovadores, confiables y de alta calidad para la fabricación de semiconductores, la industria fotovoltaica y otros campos relacionados. Nuestra línea de productos incluye productos cerámicos y de grafito recubiertos de SiC/TaC, que abarcan diversos materiales como carburo de silicio, nitruro de silicio y óxido de aluminio, etc. Como proveedor confiable, entendemos la importancia de los consumibles en el proceso de fabricación y estamos comprometidos a entregar productos que Cumplir con los más altos estándares de calidad para satisfacer las necesidades de nuestros clientes.

Descripción

El disco epitaxial de silicio monocristalino recubierto de SiC Semiconductor de semicera, una solución de vanguardia diseñada para procesos avanzados de crecimiento epitaxial. Semicera se especializa en producir discos de alto rendimiento que ofrecen excelente conductividad térmica y durabilidad, ideales para aplicaciones en Si Epitaxy y SiC Epitaxy. Este disco epitaxial, recubierto con carburo de silicio (SiC), mejora la eficiencia y precisión de los procesos de fabricación de semiconductores.

Nuestro disco epitaxial compatible con MOCVD Susceptor garantiza un rendimiento constante en diversas configuraciones, incluidos sistemas que requieren PSS Etching Carrier, ICP Etching Carrier y RTP Carrier. Este disco está diseñado para satisfacer las altas demandas de la producción de silicio monocristalino, lo que lo hace adecuado para aplicaciones de susceptor epitaxial LED y otros procesos de crecimiento de semiconductores. Los diseños de Barrel Susceptor y Pancake Susceptor ofrecen versatilidad a los fabricantes, mientras que el uso de piezas fotovoltaicas extiende su aplicación a la industria solar.

Con su construcción robusta, las capacidades de epitaxia de GaN sobre SiC de este disco mejoran aún más su valor para sistemas epitaxiales avanzados. Esta solución está diseñada para proporcionar resultados confiables y de alta calidad, lo que la convierte en un componente esencial para la fabricación moderna de semiconductores y fotovoltaica.

 

 

 

Características principales

1. Grafito recubierto de SiC de alta pureza

2. Resistencia al calor superior y uniformidad térmica

3. Fino revestimiento de cristal de SiC para una superficie lisa

4. Alta durabilidad frente a limpieza química.

 

Especificaciones principales de los recubrimientos CVD-SIC:

SiC-CVD
Densidad (g/cc) 3.21
Resistencia a la flexión (Mpa) 470
Expansión térmica (10-6/K) 4
Conductividad térmica (W/mK) 300

Embalaje y envío

Capacidad de suministro:
10000 pedazos/pedazos por mes
Embalaje y entrega:
Embalaje: embalaje estándar y resistente
Bolsa de polietileno + Caja + Cartón + Paleta
Puerto:
Ningbo/Shenzhen/Shanghái
Plazo de entrega:

Cantidad (piezas)

1-1000

>1000

 Est. Tiempo (días) 30 Para ser negociado

Lugar de trabajo Semicera

Lugar de trabajo semicera 2

maquina de equipo

Procesamiento CNN, limpieza química, recubrimiento CVD

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