SiC-Coated Epitaxial Reactor Barrel

Semicera offers a comprehensive range of susceptors and graphite components designed for various epitaxy reactors.Through strategic partnerships with industry-leading OEMs, extensive materials expertise, and advanced manufacturing capabilities, Semicera delivers tailored designs to meet the specific requirements of your application. Our commitment to excellence ensures that you receive optimal solutions for your epitaxy reactor needs.

Descripción

Our company provides SiC coating process services on the surface of graphite, ceramics and other materials by CVD method, so that special gases containing carbon and silicon can react at high temperature to obtain high-purity Sic molecules, which can be deposited on the surface of coated materials to form a SiC protective layer for epitaxy barrel type hy pnotic.

 

sic (1)

sic (2)

Características principales

1. Resistencia a la oxidación de alta temperatura:
La resistencia a la oxidación sigue siendo muy buena cuando la temperatura es tan alta como 1600 C.
2. Alta pureza: hecha por deposición de vapor químico en una condición de cloración de alta temperatura.
3. Resistencia a la erosión: alta dureza, superficie compacta, partículas finas.
4. Resistencia a la corrosión: ácido, álcali, sal y reactivos orgánicos.

Especificaciones principales de recubrimiento CVD-SIC

Propiedades de SIC-CVD
Estructura cristalina FCC β phase
Densidad g/cm ³ 3.21
Dureza Dureza de Vickers 2500
Tamaño de grano μm 2~10
Pureza química % 99.99995
Capacidad de calor J·kg-1 ·K-1 640
Temperatura de sublimación 2700
Fuerza del felexural MPa  (RT 4-point) 415
Young’ s Modulus Gpa (4pt bend, 1300℃) 430
Expansión térmica (CTE) 10-6K-1 4.5
Conductividad térmica (W/mk) 300

Lugar de trabajo de semicera

Semicera Work Place 2

Máquina de equipos

Procesamiento de CNN, limpieza química, recubrimiento de CVD

Nuestro servicio

Nuevo

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