Proceso recubierto de SIC para portadores de grafito recubiertos de SIC base de grafito

Semicera Energy Technology Co., Ltd. is a leading supplier of advanced semiconductor ceramics. Our main products include: Silicon carbide etched discs, silicon carbide boat trailers, silicon carbide wafer ships (PV & Semiconductor), silicon carbide furnace tubes, silicon carbide cantilever paddles, silicon carbide chuck, silicon carbide beams, as well as CVD SiC coatings and TaC coatings.The products are mainly used in the semiconductor and photovoltaic industries, such as crystal growth, epitaxy, etching, packaging, coating and diffusion furnace equipment.

Descripción

We maintain very close tolerances when applying the SiC coating, using high-precision machining to ensure a uniform susceptor profile. We also produce materials with ideal electrical resistance properties for use in inductively heated systems. All finished components come with a purity and dimensional compliance certificate.

Our company provides SiC coating process services by CVD method on the surface of graphite, ceramics and other materials, so that special gases containing carbon and silicon react at high temperature to obtain high purity SiC molecules, molecules deposited on the surface of the coated materials, forming SIC protective layer. The SIC formed is firmly bonded to the graphite base, giving the graphite base special properties, thus making the surface of the graphite compact, Porosity-free, high temperature resistance, corrosion resistance and oxidation resistance.

GF (1)

CVD process delivers extremely high purity and theoretical density of SiC coating with no porosity. What’s more, as silicon carbide is very hard, it can be polished to a mirror-like surface. CVD silicon carbide (SiC) coating delivered several advantages including ultra-high purity surface and extremely wear durability. As the coated products have great performance in high vacuum and high temperature circumstance, they are ideal for applications in semiconductor industry and other ultra-clean environment. We also provide pyrolytic graphite (PG) products.

Características principales

1. Resistencia a la oxidación de alta temperatura:
La resistencia a la oxidación sigue siendo muy buena cuando la temperatura es tan alta como 1600 C.
2. Alta pureza: hecha por deposición de vapor químico en una condición de cloración de alta temperatura.
3. Resistencia a la erosión: alta dureza, superficie compacta, partículas finas.
4. Resistencia a la corrosión: ácido, álcali, sal y reactivos orgánicos.

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Especificaciones principales de recubrimientos CVD-SIC

Sic-cvd
Densidad (g/cc) 3.21
Resistencia a la flexión (MPA) 470
Expansión térmica (10-6/K) 4
Conductividad térmica (W/mk) 300

Solicitud

El recubrimiento de carburo de silicio CVD ya se ha aplicado en las industrias de semiconductores, como la bandeja MOCVD, la cámara de grabado RTP y óxido, ya que el nitruro de silicio tiene una gran resistencia a los choques térmicos y puede resistir el plasma de alta energía.
-El carburo de silicio se usa ampliamente en semiconductores y recubrimiento.

Solicitud

Capacidad de suministro:
10000 piezas/piezas por mes
Embalaje y entrega:
Embalaje: embalaje estándar y fuerte
Poly Bag + Box + Carton + Pallet
Puerto:
Ningbo/Shenzhen/Shanghai
Tiempo de entrega:

Cantidad (piezas) 1 – 1000 >1000
Est. Tiempo (días) 30 To be negotiated
Lugar de trabajo de semicera
Semicera Work Place 2
Máquina de equipos
Procesamiento de CNN, limpieza química, recubrimiento de CVD
Nuestro servicio

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