Discos de oblea epitaxiales de carburo de silicio para equipos VEECO

Semicera es un proveedor líder de obleas y consumibles semiconductores avanzados, que se centra en proporcionar discos de obleas epitaxiales de carburo de silicio de alta calidad para productos de equipos VEECO. Nuestros discos de oblea epitaxiales de carburo de silicio para equipos VEECO son confiables e innovadores, adecuados para la fabricación de semiconductores, la industria fotovoltaica y otros campos relacionados. Semicera ofrece productos más económicos y de alta calidad, consultas bienvenidas.

Descripción

Los discos de oblea epitaxiales de carburo de silicio para equipos VEECO de semicera están diseñados con precisión para procesos epitaxiales avanzados, lo que garantiza resultados de alta calidad en aplicaciones de epitaxia de Si y epitaxia de SiC. Estos discos de oblea están diseñados específicamente para equipos VEECO y mejoran el rendimiento y la eficiencia de diversos procesos de fabricación de semiconductores. La experiencia de Semicera garantiza una durabilidad y precisión excepcionales para aplicaciones críticas.

Estos discos de oblea epitaxiales son ideales para usar con sistemas susceptores MOCVD y brindan soporte sólido para componentes esenciales como PSS Etching Carrier, ICP Etching Carrier y RTP Carrier. Además, ofrecen compatibilidad mejorada con los procesos de susceptor epitaxial LED, susceptor de barril y silicio monocristalino, lo que garantiza que sus líneas de producción mantengan los más altos estándares de eficiencia y precisión.

Diseñados para tecnología de vanguardia, estos discos de oblea contribuyen significativamente a la producción de piezas fotovoltaicas y facilitan procesos complejos como GaN en epitaxia de SiC. Ya sea que se utilicen para configuraciones de susceptor Pancake u otras aplicaciones exigentes, los discos de oblea epitaxiales de carburo de silicio de Semicera proporcionan una base confiable para la fabricación avanzada de semiconductores, lo que garantiza un rendimiento óptimo y una durabilidad a largo plazo.

 

Características principales

1. Grafito recubierto de SiC de alta pureza

2. Resistencia al calor superior y uniformidad térmica

3. Fino revestimiento de cristal de SiC para una superficie lisa

4. Alta durabilidad frente a limpieza química.

 

Especificaciones principales de los recubrimientos CVD-SIC:

SiC-CVD
Densidad (g/cc) 3.21
Resistencia a la flexión (Mpa) 470
Expansión térmica (10-6/K) 4
Conductividad térmica (W/mK) 300

Embalaje y envío

Capacidad de suministro:
10000 pedazos/pedazos por mes
Embalaje y entrega:
Embalaje: embalaje estándar y resistente
Bolsa de polietileno + Caja + Cartón + Paleta
Puerto:
Ningbo/Shenzhen/Shanghái
Plazo de entrega:

Cantidad (piezas)

1-1000

>1000

 Est. Tiempo (días) 30 Para ser negociado

Lugar de trabajo Semicera

Lugar de trabajo semicera 2

maquina de equipo

Procesamiento CNN, limpieza química, recubrimiento CVD

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