Sustratos de carburo de silicio|Obleas de SiC

Semicera Energy Technology Co., Ltd. es un proveedor líder especializado en obleas y consumibles semiconductores avanzados. Nos dedicamos a proporcionar productos innovadores, confiables y de alta calidad para la fabricación de semiconductores, la industria fotovoltaica y otros campos relacionados. Nuestra línea de productos incluye productos cerámicos y de grafito recubiertos de SiC/TaC, que abarcan diversos materiales como carburo de silicio, nitruro de silicio y óxido de aluminio, etc. La longitud máxima del recubrimiento de SiC que podemos hacer es 2640 mm.

Oblea de SiC

El material monocristalino de carburo de silicio (SiC) tiene un gran ancho de banda prohibida (~Si 3 veces), alta conductividad térmica (~Si 3,3 veces o GaAs 10 veces), alta tasa de migración de saturación de electrones (~Si 2,5 veces), campo eléctrico de alta ruptura (~Si 10 veces o GaAs 5 veces) y otras características sobresalientes.

Los dispositivos de SiC tienen ventajas irremplazables en el campo de los dispositivos electrónicos de alta temperatura, alta presión, alta frecuencia y alta potencia y aplicaciones ambientales extremas como aeroespacial, militar, energía nuclear, etc., compensan los defectos de los dispositivos de materiales semiconductores tradicionales en aplicaciones prácticas y se están convirtiendo gradualmente en la corriente principal de los semiconductores de potencia.

Especificaciones del sustrato de carburo de silicio 4H-SiC

Artículo

Especificacionesparámetros

politipo
forma cristalina

4H-SiC

6H-SiC

Diámetro
Diámetro de la oblea

2 pulgadas | 3 pulgadas | 4 pulgadas | 6 pulgadas

2 pulgadas | 3 pulgadas | 4 pulgadas | 6 pulgadas

Espesor
espesor

330 micras ~ 350 micras

330 micras ~ 350 micras

Conductividad
Tipo de conductividad

N – tipo / Semiaislante
tipo hoja conductora / Lámina semiaislante

N – tipo / Semiaislante
tipo hoja conductora / Lámina semiaislante

dopante
dopante

N2 ( Nitrógeno ) V ( Vanadio )

N2 ( Nitrógeno ) V ( Vanadio )

Orientación
Orientación del cristal

En el eje <0001>
Fuera del eje <0001> fuera de 4°

En el eje <0001>
Fuera del eje <0001> fuera de 4°

Resistividad
Resistividad

0,015 ~ 0,03 ohmios-cm
(4H-N)

0,02 ~ 0,1 ohmios-cm
(6H-N)

Densidad de microtubos (MPD)
densidad de microtúbulos

≤10/cm2 ~ ≤1/cm2

≤10/cm2 ~ ≤1/cm2

televisión
Cambio de espesor total

≤ 15 micras

≤ 15 micras

Arco / Deformación
Deformación

≤25 micras

≤25 micras

Superficie
Tratamiento superficial

DSP/SSP

DSP/SSP

Calificación
Grado del producto

Grado de producción/investigación

Grado de producción/investigación

Secuencia de apilamiento de cristales
método de apilamiento

ABCB

ABCABC

Parámetro de celosía
Parámetros de red

a=3,076A, c=10,053A

a=3,073A, c=15,117A

Eg/eV (banda prohibida)
Ancho de banda prohibida

3,27 eV

3,02 eV

ε(Constante dieléctrica)
Constante dieléctrica

9.6

9.66

Índice de refracción
índice de refracción

n0 =2,719 ne =2,777

n0 =2,707, ne =2,755

Especificaciones del sustrato de carburo de silicio 6H-SiC 

Artículo

 Especificacionesparámetros

politipo
forma cristalina

6H-SiC

Diámetro
Diámetro de la oblea

4 pulgadas | 6 pulgadas

Espesor
espesor

350 μm ~ 450 μm

Conductividad
Tipo de conductividad

N – tipo / Semiaislante
tipo hoja conductora / Lámina semiaislante

dopante
dopante

N2 (nitrógeno)
V (Vanadio)

Orientación
Orientación del cristal

<0001> apagado 4°± 0,5°

Resistividad
Resistividad

0,02 ~ 0,1 ohmios-cm
(Tipo 6H-N)

Densidad de microtubos (MPD)
densidad de microtúbulos

≤ 10/cm2

televisión
Cambio de espesor total

≤ 15 micras

Arco / Deformación
Deformación

≤25 micras

Superficie
Tratamiento superficial

Cara Si: CMP, Epi-Ready
Cara C: Polaco óptico

Calificación
Grado del producto

Grado de investigación

Boletín

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