{"id":2224,"date":"2025-09-11T05:33:27","date_gmt":"2025-09-11T05:33:27","guid":{"rendered":"https:\/\/weitai2.globaldeepsea.site\/product\/pss-processing-carrier-for-semiconductor-wafer-transmission\/"},"modified":"2026-04-29T15:28:11","modified_gmt":"2026-04-29T07:28:11","slug":"pss-processing-carrier-for-semiconductor-wafer-transmission","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/www.cn-semiconductorparts.com\/es\/product\/pss-processing-carrier-for-semiconductor-wafer-transmission\/","title":{"rendered":"Portador de procesamiento de PSS para la transmisi\u00f3n de obleas de semiconductores"},"content":{"rendered":"
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Descripci\u00f3n del Producto<\/p>\n

Nuestra compa\u00f1\u00eda proporciona servicios de procesos de recubrimiento SIC mediante el m\u00e9todo de CVD en la superficie del grafito, la cer\u00e1mica y otros materiales, de modo que los gases especiales que contienen carbono y silicio reaccionan a alta temperatura para obtener mol\u00e9culas SiC de alta pureza, mol\u00e9culas depositadas en la superficie de los materiales recubiertos, formando una capa protectora SIC.<\/p>\n

Caracter\u00edsticas principales:<\/p>\n

1. Resistencia a la oxidaci\u00f3n de alta temperatura:<\/p>\n

La resistencia a la oxidaci\u00f3n sigue siendo muy buena cuando la temperatura es tan alta como 1600 C.<\/p>\n

2. Alta pureza: hecha por deposici\u00f3n de vapor qu\u00edmico en una condici\u00f3n de cloraci\u00f3n de alta temperatura.<\/p>\n

3. Resistencia a la erosi\u00f3n: alta dureza, superficie compacta, part\u00edculas finas.<\/p>\n

4. Resistencia a la corrosi\u00f3n: \u00e1cido, \u00e1lcali, sal y reactivos org\u00e1nicos.<\/p>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n

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\"Portador <\/img><\/a> <\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n
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\"Portador <\/img><\/a> <\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n
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Especificaciones principales de recubrimiento CVD-SIC<\/p>\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n
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Propiedades de SIC-CVD<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

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Estructura cristalina<\/p>\n<\/td>\n

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Fase FCC \u03b2<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

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Densidad<\/p>\n<\/td>\n

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g\/cm \u00b3<\/p>\n<\/td>\n

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3.21<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

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Dureza<\/p>\n<\/td>\n

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Dureza de Vickers<\/p>\n<\/td>\n

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2500<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

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Tama\u00f1o de grano<\/p>\n<\/td>\n

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mm<\/p>\n<\/td>\n

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2~10<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

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Pureza qu\u00edmica<\/p>\n<\/td>\n

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%<\/p>\n<\/td>\n

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99.99995<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

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Capacidad de calor<\/p>\n<\/td>\n

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J \u00b7 KG-1 \u00b7 K-1<\/p>\n<\/td>\n

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640<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

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Temperatura de sublimaci\u00f3n<\/p>\n<\/td>\n

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\u2103<\/p>\n<\/td>\n

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2700<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

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Fuerza del felexural<\/p>\n<\/td>\n

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MPA (RT 4 puntos)<\/p>\n<\/td>\n

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415<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

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M\u00f3dulo de Young<\/p>\n<\/td>\n

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GPA (4pt Bend, 1300 \u2103)<\/p>\n<\/td>\n

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430<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

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Expansi\u00f3n t\u00e9rmica (CTE)<\/p>\n<\/td>\n

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10-6K-1<\/p>\n<\/td>\n

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4.5<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

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Conductividad t\u00e9rmica<\/p>\n<\/td>\n

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(W\/mk)<\/p>\n<\/td>\n

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300<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n

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\"Lugar <\/img><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n
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\"Semicera <\/img><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n
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\"M\u00e1quina <\/img><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n
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\"Procesamiento <\/img><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n
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\"Nuestro <\/img><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/div>","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

El portador de procesamiento de PSS de Semicera para la transmisi\u00f3n de obleas de semiconductores est\u00e1 dise\u00f1ado para un manejo y transferencia eficientes de obleas de semiconductores durante los procesos de fabricaci\u00f3n. Hecho de materiales de alta calidad, este transportista garantiza una alineaci\u00f3n precisa, contaminaci\u00f3n m\u00ednima y transporte de obleas suaves. Dise\u00f1ados para la industria de semiconductores, los portadores de PSS de Semicera mejoran la eficiencia del proceso, la confiabilidad y el rendimiento, lo que los convierte en un componente esencial en el procesamiento de obleas y las aplicaciones de manejo.<\/p>","protected":false},"featured_media":635,"comment_status":"closed","ping_status":"open","template":"","meta":[],"product_brand":[],"product_cat":[16,66],"product_tag":[],"class_list":{"0":"post-2224","1":"product","2":"type-product","3":"status-publish","4":"has-post-thumbnail","6":"product_cat-cvd-sic","7":"product_cat-etching-process-parts","9":"first","10":"instock","11":"product-type-simple"},"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/www.cn-semiconductorparts.com\/es\/wp-json\/wp\/v2\/product\/2224","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/www.cn-semiconductorparts.com\/es\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/www.cn-semiconductorparts.com\/es\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.cn-semiconductorparts.com\/es\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=2224"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.cn-semiconductorparts.com\/es\/wp-json\/wp\/v2\/media\/635"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/www.cn-semiconductorparts.com\/es\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=2224"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.cn-semiconductorparts.com\/es\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=2224"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.cn-semiconductorparts.com\/es\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=2224"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.cn-semiconductorparts.com\/es\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=2224"}],"curies":[{"name":"WP","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}