Vassoio MOCVD rivestito ad alta purezza anti-ossidazione

Semicera Energy Technology Co., Ltd. is a leading supplier specializing in wafer and advanced semiconductor consumables.We are dedicated to providing high-quality, reliable, and innovative products to semiconductor manufacturing,photovoltaic industryand other related fields.Our product line includes SiC/TaC coated graphite products and ceramic products, encompassing various materials such as silicon carbide, silicon nitride, and aluminum oxide and etc.As a trusted supplier, we understand the importance of consumables in the manufacturing process, and we are committed to delivering products that meet the highest quality standards to fulfill our customers’ needs.

Descrizione

Our company provides SiC coating process services by CVD method on the surface of graphite, ceramics and other materials, so that special gases containing carbon and silicon react at high temperature to obtain high purity SiC molecules, molecules deposited on the surface of the coated materials, forming a SiC protective layer.

 

Caratteristiche principali

1. Resistenza all'ossidazione ad alta temperatura:
La resistenza all'ossidazione è ancora molto buona quando la temperatura è alta fino al 1600 C.
2. Purità elevata: realizzata mediante deposizione di vapore chimico in condizioni di clorazione ad alta temperatura.
3. Resistenza all'erosione: alta durezza, superficie compatta, particelle fini.
4. Resistenza alla corrosione: acido, alcali, sale e reagenti organici.

Specifiche principali del rivestimento CVD-SIC

Proprietà SIC-CVD
Struttura cristallina Fase β FCC
Densità g/cm ³ 3.21
Durezza Vickers Durezza 2500
Dimensione del grano µm 2~10
Purezza chimica % 99.99995
Capacità termica J · kg-1 · k-1 640
Temperatura di sublimazione 2700
Forza felexurale MPA (RT 4-point) 415
Modulo di Young GPA (4pt Bend, 1300 ℃) 430
Espansione termica (CTE) 10-6K-1 4.5
Conducibilità termica (W/MK) 300

MOCVD EPITAXIAL PARTS

MOCVD disk

 Equipment

about

Luogo di lavoro semicera

Semicera lavoro posto 2

Macchina per attrezzature

Elaborazione della CNN, pulizia chimica, rivestimento CVD

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