41 pieces 4 inch graphite base MOCVD equipment parts

● Product introduction and use: Placed 41 pieces of 4 inch substrate, used for the growth of blue-green epitaxial films in LED production
● Device location of the product: in the reaction chamber, in direct contact with the wafer
● Main downstream products: LED chips
● Main end market: LED

Descrizione

 

 

 

 

 

Our company provides SiC coating process services by CVD method on the surface of graphite, ceramics and other materials, so that special gases containing carbon and silicon react at high temperature to obtain high purity SiC molecules, molecules deposited on the surface of the coated materials, forming a SiC protective layer.

 

 

 

 

 

 

41 pieces 4 inch graphite base MOCVD equipment parts

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Caratteristiche principali

 

 

 

 

 

1. Resistenza all'ossidazione ad alta temperatura:
the oxidation resistance is still very good when the temperature is as high as 1600 ℃.
2. Purità elevata: realizzata mediante deposizione di vapore chimico in condizioni di clorazione ad alta temperatura.
3. Resistenza all'erosione: alta durezza, superficie compatta, particelle fini.
4. Resistenza alla corrosione: acido, alcali, sale e reagenti organici.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Specifiche principali del rivestimento CVD-SIC

 

 

 

 

 

Proprietà SIC-CVD
Struttura cristallina FCC β phase
Densità g/cm ³ 3.21
Durezza Vickers Durezza 2500
Dimensione del grano μm 2~10
Purezza chimica % 99.99995
Capacità termica J·kg-1 ·K-1 640
Temperatura di sublimazione 2700
Forza felexurale MPa  (RT 4-point) 415
Young’ s Modulus GPA (4pt Bend, 1300 ℃) 430
Espansione termica (CTE) 10-6K-1 4.5
Conducibilità termica (W/MK) 300

 

 

 

 

 

 

 

 

Luogo di lavoro semicera

 

 

 

Semicera lavoro posto 2

 

 

 

Macchina per attrezzature

 

 

 

Elaborazione della CNN, pulizia chimica, rivestimento CVD

 

 

 

Semicera ware house

 

 

 

Il nostro servizio

 

 

 

 

 

 

 

 

 

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