Suscettitore di Wafer

Wafer Susceptor è un componente core indispensabile nel processo di epitassia. Semicera fornisce soluzioni eccellenti per i processi di epitassia SI e SIC Epitaxy attraverso la progettazione e la produzione di precisione. Il nostro suscettore del wafer garantisce una distribuzione uniforme del calore durante il processo di epitassia e migliora la qualità della deposizione del silicio monocristallino (silicio monocristallino). Si comporta bene in diversi tipi di suscettori MOCVD e suscettori a botte ed è adatto a vari processi di produzione di semiconduttori.

Il suscettore del wafer di Semicera è realizzato con materiali ad alta resistenza con eccellente resistenza ad alta temperatura e resistenza alla corrosione e può rimanere stabile a lungo anche in condizioni di processo di epitassia complesse. Sia nei processi di epitassia SI che SIC epitassia, il suscettore di Semicera può fornire un preciso supporto per il controllo della temperatura per garantire la coerenza della qualità dei wafer durante la crescita dell'epitassia.

Inoltre, il suscettore del wafer di Semicera è inoltre elaborato con precisione per adattarsi a una varietà di requisiti di attrezzatura e specifiche, in particolare nelle applicazioni del suscettore del suscettore MOCVD e del barile. Con l'eccellente selezione dei materiali e il controllo del processo, i nostri prodotti non solo migliorano l'efficienza della produzione, ma riducono anche significativamente il tasso di difetto e il consumo di energia nel processo.

Per i processi di epitassia estremamente impegnativi nel settore dei semiconduttori, il suscettore del wafer di Semikera è la scelta ideale. Sia per la produzione di ricerca e sviluppo che per la produzione di massa, il nostro suscettore del wafer può aiutare i clienti a raggiungere una maggiore affidabilità e una migliore struttura cristallina nei processi di epitassia SI e SIC.