Semicera’s SiC Ceramic Seal Part is designed for the semiconductor manufacturing industry, providing excellent sealing performance and durability. It uses high-quality Silicon Carbide (SiC) material, combined with Alumina (Al2O3) and Silicon Nitride (Si3N4), to ensure reliable performance in high temperature and harsh environments, and is widely used in wafer boats and wafer carriers.
炭化シリコンがコーティングするのはなぜですか?
Semicera’s self-developed SiC Ceramic Seal Part is designed to meet the high standards of modern semiconductor manufacturing. This sealing part uses high-performance silicon carbide (SiC) material with excellent wear resistance and chemical stability to ensure excellent sealing performance in extreme environments. Combined with aluminum oxide (Al2O3) and silicon nitride (Si3N4), this part performs well in high-temperature applications and can effectively prevent gas and liquid leakage.
When used in conjunction with equipment such as wafer boats and wafer carriers, Semicera’s SiC Ceramic Seal Part can significantly improve the efficiency and reliability of the overall system. Its superior temperature resistance and corrosion resistance make it an indispensable component in high-precision semiconductor manufacturing, ensuring stability and safety during the production process.
In addition, the design of this sealing part has been carefully optimized to ensure compatibility with a variety of equipment, making it easy to use in different production lines. Semicera’s R&D team continues to work hard to promote technological innovation to ensure the competitiveness of its products in the industry.
Choosing Semicera’s SiC Ceramic Seal Part, you will get a combination of high performance and reliability, helping you achieve more efficient production processes and excellent product quality. Semicera is always committed to providing customers with the best semiconductor solutions and services to promote the continuous development and progress of the industry.
私たちの利点、なぜセミセラを選ぶのですか?
✓Top-quality in China market
✓Good service always for you, 7*24 hours
✓Short date of delivery
✓Small MOQ welcome and accepted
✓Custom services
応用
エピタキシー成長受容器
シリコン/シリコンカーバイドウェーハは、電子デバイスで使用するために複数のプロセスを経る必要があります。重要なプロセスは、シリコン/sicエピタキシーで、シリコン/sicウェーハがグラファイトベースに運ばれます。 Semiceraの炭化シリコン炭化物コーティンググラファイトベースの特別な利点には、非常に高い純度、均一なコーティング、および非常に長いサービス寿命が含まれます。また、高耐性耐性と熱安定性もあります。
LEDチップ生産
MOCVD反応器の広範なコーティング中、惑星ベースまたはキャリアが基板ウェーハを移動します。基本材料の性能は、コーティングの品質に大きな影響を与え、チップのスクラップレートに影響します。 Semiceraの炭化物コーティングベースは、高品質のLEDウェーハの製造効率を高め、波長偏差を最小限に抑えます。また、現在使用されているすべてのMOCVD反応器に追加のグラファイト成分を提供します。コンポーネントの直径が最大1.5mであっても、ほぼすべてのコンポーネントが炭化シリコンコーティングでコーティングできますが、炭化シリコンでコーティングできます。
半導体場、酸化拡散プロセス、など
半導体プロセスでは、酸化拡張プロセスには高い製品純度が必要であり、Semiceraでは、炭化シリコン部品の大部分に対してカスタムおよびCVDコーティングサービスを提供しています。
次の写真は、セミセアのラフ処理されたシリコン炭化物スラリーと100で洗浄されたシリコン炭化物炉チューブを示しています。0-レベル ダストフリー 部屋。私たちの労働者はコーティングの前に働いています。炭化シリコンの純度は99.99%に達する可能性があり、SICコーティングの純度は99.99995%を超えています.
Semi-Cera 'CVD SIC Performaceのデータ。