プロの中国のメーカーとして、シリコン炭化物セラミックコーティングのサプライヤー、輸出業者。 Semiceraの炭化シリコンセラミックコーティングは、特にCVDやPECVなどの処理プロセスで、半導体製造装置の主要成分で広く使用されています。 Semiceraは、半導体業界向けの高度な技術と製品ソリューションの提供に取り組んでおり、さらなる相談を歓迎します。
セミセラ 炭化シリコンセラミックコーティング 非常に硬く耐摩耗性の炭化シリコン(原文)材料で作られた高性能保護コーティングです。コーティングは通常、CVDまたはPVDプロセスによって基板の表面に堆積します 炭化シリコン粒子、優れた化学腐食抵抗と高温の安定性を提供します。したがって、炭化シリコンセラミックコーティングは、半導体製造装置の主要なコンポーネントで広く使用されています。
半導体製造では、 SICコーティング 最大1600°Cの非常に高い温度に耐えることができるため、高温または腐食性環境での損傷を防ぐための機器またはツールの保護層としてよく炭化物のセラミックコーティングが使用されます。
同時に、 炭化シリコンセラミックコーティング 酸、アルカリ、酸化物、その他の化学試薬の侵食に抵抗することができ、さまざまな化学物質に対する耐食性が高くなります。したがって、この製品は、半導体業界のさまざまな腐食性環境に適しています。
さらに、他のセラミック材料と比較して、SICは熱伝導率が高く、効果的に熱を導くことができます。この機能は、正確な温度制御を必要とする半導体プロセスでは、の高い熱伝導率が 炭化シリコンセラミックコーティング 熱を均等に分散させ、局所の過熱を防ぎ、デバイスが最適な温度で動作するようにします。
CVD SICコーティングの基本的な物理的特性 |
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財産 |
典型的な値 |
結晶構造 |
FCCβ相多結晶、主に(111)配向 |
密度 |
3.21 g/cm³ |
硬度 |
2500ビッカーズの硬度(500g負荷) |
穀物サイズ |
2〜10mm |
化学純度 |
99.99995% |
熱容量 |
640 J・kg-1·K-1 |
昇華温度 |
2700℃ |
曲げ強度 |
415 MPA RT 4ポイント |
ヤングモジュラス |
430 GPA 4PTベンド、1300℃ |
熱伝導率 |
300W・m-1·K-1 |
熱膨張(CTE) |
4.5×10-6K-1 |