LED業界のICPエッチングプロセスのSICピントレイ

Semicera’s SiC Pin Trays for ICP Etching Processes in the LED Industry are specifically designed to enhance efficiency and precision in etching applications. Made from high-quality silicon carbide, these pin trays offer excellent thermal stability, chemical resistance, and mechanical strength. Ideal for the demanding conditions of the LED manufacturing process, Semicera’s SiC pin trays ensure uniform etching, minimize contamination, and improve overall process reliability, contributing to high-quality LED production.

Product Description

Our company provides SiC coating process services by CVD method on the surface of graphite, ceramics and other materials, so that special gases containing carbon and silicon react at high temperature to obtain high purity SiC molecules, molecules deposited on the surface of the coated materials, forming SIC protective layer.

主な機能:

1。高温酸化抵抗:

温度が1600 Cになると、酸化抵抗は非常に良好です。

2. High purity : made by chemical vapor deposition under high temperature chlorination condition.

3。侵食抵抗:高硬度、コンパクトな表面、微粒子。

4。耐食性:酸、アルカリ、塩、有機試薬。

Silicon carbide etched disk (2)

CVD-SICコーティングの主な仕様

SIC-CVDプロパティ

結晶構造

FCCβ相

密度

g/cm³

3.21

硬度

ビッカーズの硬さ

2500

穀物サイズ

mm

2~10

化学純度

%

99.99995

熱容量

J・kg-1・k-1

640

昇華温度

2700

フェレキュラルの強さ

MPA(RT 4ポイント)

415

ヤングモジュラス

GPA(4ptベンド、1300℃)

430

熱膨張(CTE)

10-6K-1

4.5

熱伝導率

(w/mk)

300

セミセラの職場

セミセラ職場2

機器マシン

CNN処理、化学洗浄、CVDコーティング

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