CVD Silicon Carbide SiC Etching Ring

Semicera provides high-quality CVD Silicon Carbide(SiC) Etching Ring as well as customized services. Our CVD Silicon Carbide(SiC) Etching Ring has excellent quality and performance, they are designed for etching steps to provide stable etching performance and excellent etching results. Semicera looks forward to establishing a long-term partnership with you in China.

Why is CVD SiC Etching Ring?

CVD Silicon Carbide(SiC) Etching Ring is a special component made of Silicon Carbide (SiC) using the Chemical Vapor Deposition (CVD) method. CVD Silicon Carbide(SiC) Etching Ring plays a key role in a variety of industrial applications, especially in processes involving material etching. Silicon Carbide is a unique and advanced ceramic material known for its outstanding properties, including high hardness, excellent thermal conductivity and resistance to harsh chemical environments.

The Chemical Vapor Deposition process involves depositing a thin layer of SiC onto a substrate in a controlled environment, resulting in a high-purity and precisely engineered material. CVD Silicon Carbide is known for its uniform and dense microstructure, excellent mechanical strength and enhanced thermal stability.

CVD Silicon Carbide(SiC) Etching Ring is made of CVD Silicon Carbide, which not only ensures excellent durability, but also resists chemical corrosion and extreme temperature changes. This makes it ideal for applications where precision, reliability and life are critical.

 

私たちの利点、なぜセミセラを選ぶのですか?

✓Top-quality in China market

 

✓Good service always for you, 7*24 hours

 

✓Short date of delivery

 

✓Small MOQ welcome and accepted

 

✓Custom services

クォーツ生産機器4

応用

エピタキシー成長受容器

シリコン/シリコンカーバイドウェーハは、電子デバイスで使用するために複数のプロセスを経る必要があります。重要なプロセスは、シリコン/sicエピタキシーで、シリコン/sicウェーハがグラファイトベースに運ばれます。 Semiceraの炭化シリコン炭化物コーティンググラファイトベースの特別な利点には、非常に高い純度、均一なコーティング、および非常に長いサービス寿命が含まれます。また、高耐性耐性と熱安定性もあります。

 

Siエピタキシーバレル受容器

シリコンエピタキシー受容器

Siエピタキシーパンケーキ容認

炭化シリコンエピタキシー受容者

LEDチップ生産

MOCVD反応器の広範なコーティング中、惑星ベースまたはキャリアが基板ウェーハを移動します。基本材料の性能は、コーティングの品質に大きな影響を与え、チップのスクラップレートに影響します。 Semiceraの炭化物コーティングベースは、高品質のLEDウェーハの製造効率を高め、波長偏差を最小限に抑えます。また、現在使用されているすべてのMOCVD反応器に追加のグラファイト成分を提供します。コンポーネントの直径が最大1.5mであっても、ほぼすべてのコンポーネントが炭化シリコンコーティングでコーティングできますが、炭化シリコンでコーティングできます。

LEDエピタキシー受容器

LEDエピタキシー受容器

半導体場、酸化拡散プロセス、など

半導体プロセスでは、酸化拡張プロセスには高い製品純度が必要であり、Semiceraでは、炭化シリコン部品の大部分に対してカスタムおよびCVDコーティングサービスを提供しています。

次の写真は、セミセアのラフ処理されたシリコン炭化物スラリーと100で洗浄されたシリコン炭化物炉チューブを示しています。0-レベル ダストフリー 部屋。私たちの労働者はコーティングの前に働いています。炭化シリコンの純度は99.99%に達する可能性があり、SICコーティングの純度は99.99995%を超えています

コーティング-2をコーティングする前に、炭化シリコンセミフィニッシュ製品

生のシリコン炭化物パドルとSICプロセスチューブの断片

SICチューブ

シリコン炭化物ウェーハボートCVD sicコーティング

Semi-Cera 'CVD SIC Performaceのデータ。

Semi-Cera CVD SICコーティングデータ

SICの純度

セミセラの職場

セミセラ職場2

セミセラウェアハウス

機器マシン

CNN処理、化学洗浄、CVDコーティング

私たちのサービス

ニューレター

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