Semicera provides high-quality Epitaxy Wafer Carriers designed for Si Epitaxy and SiC Epitaxy processes. Semicera’s products ensure stability and excellent thermal conductivity for various semiconductor applications such as MOCVD Susceptors and Barrel Susceptors. Our products are widely used in the production process of Monocrystalline Silicon with excellent high temperature resistance and material compatibility.
Epitaxy Wafer Carrier is a critical component in semiconductor production, especially in Si Epitaxy and SiC Epitaxy processes. Semicera carefully designs and manufactures Wafer Carriers to withstand extremely high temperatures and chemical environments, ensuring excellent performance in applications such as MOCVD Susceptor and Barrel Susceptor. Whether it is the deposition of monocrystalline silicon or complex epitaxy processes, Semicera’s Epitaxy Wafer Carrier provides excellent uniformity and stability.
Semicera’s Epitaxy Wafer Carrier is made of advanced materials with excellent mechanical strength and thermal conductivity, which can effectively reduce losses and instability during the process. In addition, the design of the Wafer Carrier can also adapt to epitaxy equipment of different sizes, thereby improving overall production efficiency.
For customers who require high-precision and high-purity epitaxy processes, Semicera’s Epitaxy Wafer Carrier is a trustworthy choice. We are always committed to providing customers with excellent product quality and reliable technical support to help improve the reliability and efficiency of production processes.
✓Top-quality in China market
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エピタキシー成長受容器
シリコン/シリコンカーバイドウェーハは、電子デバイスで使用するために複数のプロセスを経る必要があります。重要なプロセスは、シリコン/sicエピタキシーで、シリコン/sicウェーハがグラファイトベースに運ばれます。 Semiceraの炭化シリコン炭化物コーティンググラファイトベースの特別な利点には、非常に高い純度、均一なコーティング、および非常に長いサービス寿命が含まれます。また、高耐性耐性と熱安定性もあります。
LEDチップ生産
MOCVD反応器の広範なコーティング中、惑星ベースまたはキャリアが基板ウェーハを移動します。基本材料の性能は、コーティングの品質に大きな影響を与え、チップのスクラップレートに影響します。 Semiceraの炭化物コーティングベースは、高品質のLEDウェーハの製造効率を高め、波長偏差を最小限に抑えます。また、現在使用されているすべてのMOCVD反応器に追加のグラファイト成分を提供します。コンポーネントの直径が最大1.5mであっても、ほぼすべてのコンポーネントが炭化シリコンコーティングでコーティングできますが、炭化シリコンでコーティングできます。
半導体場、酸化拡散プロセス、など
半導体プロセスでは、酸化拡張プロセスには高い製品純度が必要であり、Semiceraでは、炭化シリコン部品の大部分に対してカスタムおよびCVDコーティングサービスを提供しています。
次の写真は、セミセアのラフ処理されたシリコン炭化物スラリーと100で洗浄されたシリコン炭化物炉チューブを示しています。0-レベル ダストフリー room. Our workers are working before coating. The purity of our silicon carbide can reach 99.98%, and the purity of sic coating is greater than 99.9995%.
