Solid CVD SiC Ring

Solid CVD SiC Rings are mainly composed of silicon carbide (SiC), and have excellent physical and chemical properties. Silicon carbide is a ceramic material with a high melting point, high hardness and excellent corrosion resistance. It exhibits excellent thermal conductivity, chemical stability and mechanical strength at high temperatures, and has excellent wear and abrasion resistance.

Why is Solid CVD SiC Ring ?

 

Solid CVD SiC rings are widely used in industrial and scientific fields in high temperature, corrosive and abrasive environments. It plays an important role in multiple application areas, including:

1. Semiconductor manufacturing: Solid CVD SiC rings can be used for heating and cooling of semiconductor equipment, providing stable temperature control to ensure the accuracy and consistency of the process.

2. Optoelectronics: Due to its excellent thermal conductivity and high temperature resistance, Solid CVD SiC rings can be used as support and heat dissipation materials for lasers, fiber optic communication equipment and optical components.

3. Precision machinery: Solid CVD SiC rings can be used for precision instruments and equipment in high temperature and corrosive environments, such as high temperature furnaces, vacuum devices and chemical reactors.

4. Chemical industry: Solid CVD SiC rings can be used in containers, pipes and reactors in chemical reactions and catalytic processes due to their corrosion resistance and chemical stability.

 

 

私たちの利点、なぜセミセラを選ぶのですか?

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✓Small MOQ welcome and accepted

 

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クォーツ生産機器4

応用

エピタキシー成長受容器

シリコン/シリコンカーバイドウェーハは、電子デバイスで使用するために複数のプロセスを経る必要があります。重要なプロセスは、シリコン/sicエピタキシーで、シリコン/sicウェーハがグラファイトベースに運ばれます。 Semiceraの炭化シリコン炭化物コーティンググラファイトベースの特別な利点には、非常に高い純度、均一なコーティング、および非常に長いサービス寿命が含まれます。また、高耐性耐性と熱安定性もあります。

 

Siエピタキシーバレル受容器

シリコンエピタキシー受容器

Siエピタキシーパンケーキ容認

炭化シリコンエピタキシー受容者

LEDチップ生産

MOCVD反応器の広範なコーティング中、惑星ベースまたはキャリアが基板ウェーハを移動します。基本材料の性能は、コーティングの品質に大きな影響を与え、チップのスクラップレートに影響します。 Semiceraの炭化物コーティングベースは、高品質のLEDウェーハの製造効率を高め、波長偏差を最小限に抑えます。また、現在使用されているすべてのMOCVD反応器に追加のグラファイト成分を提供します。コンポーネントの直径が最大1.5mであっても、ほぼすべてのコンポーネントが炭化シリコンコーティングでコーティングできますが、炭化シリコンでコーティングできます。

LEDエピタキシー受容器

LEDエピタキシー受容器

半導体場、酸化拡散プロセス、など

半導体プロセスでは、酸化拡張プロセスには高い製品純度が必要であり、Semiceraでは、炭化シリコン部品の大部分に対してカスタムおよびCVDコーティングサービスを提供しています。

次の写真は、セミセアのラフ処理されたシリコン炭化物スラリーと100で洗浄されたシリコン炭化物炉チューブを示しています。0-レベル ダストフリー 部屋。私たちの労働者はコーティングの前に働いています。炭化シリコンの純度は99.99%に達する可能性があり、SICコーティングの純度は99.99995%を超えています.

 

コーティング-2をコーティングする前に、炭化シリコンセミフィニッシュ製品

生のシリコン炭化物パドルとSICプロセスチューブの断片

SICチューブ

シリコン炭化物ウェーハボートCVD sicコーティング

Semi-Cera 'CVD SIC Performaceのデータ。

Semi-Cera CVD SICコーティングデータ

SICの純度

セミセラの職場

セミセラ職場2

セミセラウェアハウス

機器マシン

CNN処理、化学洗浄、CVDコーティング

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