Semicera provides high-quality Solid Silicon Carbide(SiC) Etching Ring as well as customized services. Our Solid Silicon Carbide(SiC) Etching Ring is precision manufactured and strictly quality controlled to ensure its durability and reliability, which can be widely used in semiconductor manufacturing and other related fields. You can buy solid silicon carbide (SiC) etching rings from our factory with confidence. Semicera looks forward to establishing a long-term partnership with you in China.
The Solid Silicon Carbide(SiC) Etching Rings offered by Semicera are manufactured by the Chemical Vapor Deposition (CVD) method and are an outstanding result in the field of precision etching process applications. These Solid Silicon Carbide(SiC) Etching Rings are known for their excellent hardness, thermal stability and corrosion resistance, and the superior material quality is ensured by CVD synthesis.
Designed specifically for etching processes, the Solid Silicon Carbide(SiC) Etching Rings’ rugged structure and unique material properties play a key role in achieving precision and reliability. Unlike traditional materials, the solid SiC component has unparalleled durability and wear resistance, making it an indispensable component in industries that require precision and long life.
Our Solid Silicon Carbide(SiC) Etching Rings are precision manufactured and quality controlled to ensure their superior performance and reliability. Whether in semiconductor manufacturing or other related fields, these Solid Silicon Carbide(SiC) Etching Rings can provide stable etching performance and excellent etching results.
If you are interested in our Solid Silicon Carbide(SiC) Etching Ring, please contact us. Our team will provide you with detailed product information and professional technical support to meet your needs. We look forward to establishing a long-term partnership with you and jointly promoting the development of the industry.
✓Top-quality in China market
✓Good service always for you, 7*24 hours
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✓Small MOQ welcome and accepted
✓Custom services
エピタキシー成長受容器
シリコン/シリコンカーバイドウェーハは、電子デバイスで使用するために複数のプロセスを経る必要があります。重要なプロセスは、シリコン/sicエピタキシーで、シリコン/sicウェーハがグラファイトベースに運ばれます。 Semiceraの炭化シリコン炭化物コーティンググラファイトベースの特別な利点には、非常に高い純度、均一なコーティング、および非常に長いサービス寿命が含まれます。また、高耐性耐性と熱安定性もあります。
LEDチップ生産
MOCVD反応器の広範なコーティング中、惑星ベースまたはキャリアが基板ウェーハを移動します。基本材料の性能は、コーティングの品質に大きな影響を与え、チップのスクラップレートに影響します。 Semiceraの炭化物コーティングベースは、高品質のLEDウェーハの製造効率を高め、波長偏差を最小限に抑えます。また、現在使用されているすべてのMOCVD反応器に追加のグラファイト成分を提供します。コンポーネントの直径が最大1.5mであっても、ほぼすべてのコンポーネントが炭化シリコンコーティングでコーティングできますが、炭化シリコンでコーティングできます。
半導体場、酸化拡散プロセス、など
半導体プロセスでは、酸化拡張プロセスには高い製品純度が必要であり、Semiceraでは、炭化シリコン部品の大部分に対してカスタムおよびCVDコーティングサービスを提供しています。
次の写真は、セミセアのラフ処理されたシリコン炭化物スラリーと100で洗浄されたシリコン炭化物炉チューブを示しています。0-レベル ダストフリー 部屋。私たちの労働者はコーティングの前に働いています。炭化シリコンの純度は99.99%に達する可能性があり、SICコーティングの純度は99.99995%を超えています.
