Ga2O3Substrate– Unlock new possibilities in power electronics and optoelectronics with Semicera’s Ga2O3Substrate, engineered for exceptional performance in high-voltage and high-frequency applications.
Semicera is proud to present the Ga2O3 Substrate, a cutting-edge material poised to revolutionize power electronics and optoelectronics. Gallium Oxide (Ga2O3) substrates are known for their ultra-wide bandgap, making them ideal for high-power and high-frequency devices.
주요 기능:
• Ultra-Wide Bandgap: Ga2O3 offers a bandgap of approximately 4.8 eV, significantly enhancing its ability to handle high voltages and temperatures compared to traditional materials like Silicon and GaN.
• High Breakdown Voltage: With an exceptional breakdown field, the Ga2O3 Substrate is perfect for devices requiring high-voltage operation, ensuring greater efficiency and reliability.
• Thermal Stability: The material’s superior thermal stability makes it suitable for applications in extreme environments, maintaining performance even under harsh conditions.
• Versatile Applications: Ideal for use in high-efficiency power transistors, UV optoelectronic devices, and more, providing a robust foundation for advanced electronic systems.
Experience the future of semiconductor technology with Semicera’s Ga2O3 Substrate. Designed to meet the growing demands of high-power and high-frequency electronics, this substrate sets a new standard for performance and durability. Trust Semicera to deliver innovative solutions for your most challenging applications.
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항목 |
생산 |
연구 |
더미 |
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결정 매개 변수 |
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폴리 타입 |
4H |
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표면 방향 오류 |
4±0.15° |
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전기 매개 변수 |
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도펀트 |
N- 타입 질소 |
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저항 |
0.015-0.025ohm · cm |
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기계적 매개 변수 |
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지름 |
150.0 ± 0.2mm |
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두께 |
350 ± 25 µm |
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1 차 평평한 방향 |
[1-100]±5° |
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1 차 평평한 길이 |
47.5 ± 1.5mm |
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보조 아파트 |
없음 |
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TTV |
≤5 µm |
≤10 µm |
≤15 µm |
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LTV |
≤3 μm (5mm*5mm) |
≤5 μm (5mm*5mm) |
≤10 μm (5mm*5mm) |
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절하다 |
-15μm ~ 15μm |
-35μm ~ 35μm |
-45μm ~ 45μm |
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경사 |
≤35 µm |
≤45 µm |
≤55 µm |
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전면 (si-face) 거칠기 (AFM) |
Ra≤0.2nm (5μm*5μm) |
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구조 |
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마이크로 파이프 밀도 |
<1 EA/CM2 |
<10 EA/CM2 |
<15 EA/CM2 |
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금속 불순물 |
≤5E10atoms/cm2 |
NA |
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BPD |
≤1500 EA/CM2 |
≤3000 EA/CM2 |
NA |
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TSD |
≤500 EA/CM2 |
≤1000 EA/CM2 |
NA |
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프론트 품질 |
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앞쪽 |
시 |
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표면 마감 |
Si-Face CMP |
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입자 |
≤60EA/웨이퍼 (크기 0.3μm) |
NA |
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흠집 |
≤5EA/mm. 누적 길이 ≤ diameter |
누적 길이 ≤2*직경 |
NA |
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오렌지 껍질/구덩이/얼룩/줄무늬/균열/오염 |
없음 |
NA |
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에지 칩/인테이션/골절/육각 플레이트 |
없음 |
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폴리 타입 영역 |
없음 |
누적 면적 ≤20% |
누적 면적 ≤30% |
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전면 레이저 표시 |
없음 |
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뒤로 품질 |
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뒤로 마무리 |
C-Face CMP |
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흠집 |
≤5EA/mm, 누적 길이 ≤2*직경 |
NA |
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등 결함 (Edge Chips/Indents) |
없음 |
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뒤로 거칠기 |
Ra≤0.2nm (5μm*5μm) |
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뒤 레이저 표시 |
1 mm (상단 가장자리에서) |
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가장자리 |
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가장자리 |
모따기 |
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포장 |
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포장 |
진공 포장으로 에피 레디 멀티 웨이 커 카세트 포장 |
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*참고 :“NA”는 언급되지 않은 요청 항목이 Semi-STD를 참조 할 수 없음을 의미합니다. |
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