Ga2O3Epitaxy– Enhance your high-power electronic and optoelectronic devices with Semicera’s Ga2O3Epitaxy, offering unmatched performance and reliability for advanced semiconductor applications.
세미카 proudly offers Ga2O3 Epitaxy, a state-of-the-art solution designed to push the boundaries of power electronics and optoelectronics. This advanced epitaxial technology leverages the unique properties of Gallium Oxide (Ga2O3) to deliver superior performance in demanding applications.
주요 기능:
• Exceptional Wide Bandgap: Ga2O3 Epitaxy features an ultra-wide bandgap, allowing for higher breakdown voltages and efficient operation in high-power environments.
• High Thermal Conductivity: The epitaxial layer provides excellent thermal conductivity, ensuring stable operation even under high-temperature conditions, making it ideal for high-frequency devices.
• Superior Material Quality: Achieve high crystal quality with minimal defects, ensuring optimal device performance and longevity, especially in critical applications such as power transistors and UV detectors.
• Versatility in Applications: Perfectly suited for power electronics, RF applications, and optoelectronics, providing a reliable foundation for next-generation semiconductor devices.
Discover the potential of Ga2O3 Epitaxy with Semicera’s innovative solutions. Our epitaxial products are designed to meet the highest standards of quality and performance, enabling your devices to operate with maximum efficiency and reliability. Choose Semicera for cutting-edge semiconductor technology.
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항목 |
생산 |
연구 |
더미 |
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결정 매개 변수 |
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폴리 타입 |
4H |
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표면 방향 오류 |
4±0.15° |
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전기 매개 변수 |
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도펀트 |
N- 타입 질소 |
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저항 |
0.015-0.025ohm · cm |
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기계적 매개 변수 |
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지름 |
150.0 ± 0.2mm |
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두께 |
350 ± 25 µm |
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1 차 평평한 방향 |
[1-100]±5° |
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1 차 평평한 길이 |
47.5 ± 1.5mm |
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보조 아파트 |
없음 |
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TTV |
≤5 µm |
≤10 µm |
≤15 µm |
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LTV |
≤3 μm (5mm*5mm) |
≤5 μm (5mm*5mm) |
≤10 μm (5mm*5mm) |
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절하다 |
-15μm ~ 15μm |
-35μm ~ 35μm |
-45μm ~ 45μm |
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경사 |
≤35 µm |
≤45 µm |
≤55 µm |
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전면 (si-face) 거칠기 (AFM) |
Ra≤0.2nm (5μm*5μm) |
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구조 |
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마이크로 파이프 밀도 |
<1 EA/CM2 |
<10 EA/CM2 |
<15 EA/CM2 |
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금속 불순물 |
≤5E10atoms/cm2 |
NA |
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BPD |
≤1500 EA/CM2 |
≤3000 EA/CM2 |
NA |
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TSD |
≤500 EA/CM2 |
≤1000 EA/CM2 |
NA |
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프론트 품질 |
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앞쪽 |
시 |
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표면 마감 |
Si-Face CMP |
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입자 |
≤60EA/웨이퍼 (크기 0.3μm) |
NA |
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흠집 |
≤5EA/mm. 누적 길이 ≤ diameter |
누적 길이 ≤2*직경 |
NA |
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오렌지 껍질/구덩이/얼룩/줄무늬/균열/오염 |
없음 |
NA |
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에지 칩/인테이션/골절/육각 플레이트 |
없음 |
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폴리 타입 영역 |
없음 |
누적 면적 ≤20% |
누적 면적 ≤30% |
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전면 레이저 표시 |
없음 |
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뒤로 품질 |
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뒤로 마무리 |
C-Face CMP |
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흠집 |
≤5EA/mm, 누적 길이 ≤2*직경 |
NA |
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등 결함 (Edge Chips/Indents) |
없음 |
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뒤로 거칠기 |
Ra≤0.2nm (5μm*5μm) |
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뒤 레이저 표시 |
1 mm (상단 가장자리에서) |
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가장자리 |
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가장자리 |
모따기 |
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포장 |
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포장 |
진공 포장으로 에피 레디 멀티 웨이 커 카세트 포장 |
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*참고 :“NA”는 언급되지 않은 요청 항목이 Semi-STD를 참조 할 수 없음을 의미합니다. |
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