{"id":1393,"date":"2025-09-11T05:28:53","date_gmt":"2025-09-11T05:28:53","guid":{"rendered":"https:\/\/weitai2.globaldeepsea.site\/product\/si-epitaxy\/"},"modified":"2026-04-29T15:33:43","modified_gmt":"2026-04-29T07:33:43","slug":"si-epitaxy","status":"publish","type":"product","link":"https:\/\/www.cn-semiconductorparts.com\/nl\/product\/si-epitaxy\/","title":{"rendered":"Si Epitaxy"},"content":{"rendered":"
\n
\n
\n
\n
\n
\n
\n
\n
\n
\n

Semicera<\/em> introduceert zijn hoge kwaliteit Si Epitaxy<\/strong> Diensten, ontworpen om te voldoen aan de veeleisende normen van de huidige halfgeleiderindustrie. Epitaxiale siliciumlagen zijn van cruciaal belang voor de prestaties en betrouwbaarheid van elektronische apparaten, en onze Si Epitaxy -oplossingen zorgen ervoor dat uw componenten optimale functionaliteit bereiken.<\/span><\/p>\n

Precisiegegroeide siliciumlagen<\/strong> Semicera<\/em> begrijpt dat de basis van hoogwaardige apparaten ligt in de kwaliteit van de gebruikte materialen. Ons Si Epitaxy<\/strong> Proces wordt zorgvuldig gecontroleerd om siliciumlagen te produceren met uitzonderlijke uniformiteit en kristalintegriteit. Deze lagen zijn essentieel voor toepassingen, vari\u00ebrend van micro -elektronica tot geavanceerde vermogensapparaten, waar consistentie en betrouwbaarheid van het grootste belang zijn.<\/span><\/p>\n

Geoptimaliseerd voor apparaatprestaties<\/strong> The Si Epitaxy<\/strong> Diensten aangeboden door Semicera zijn afgestemd om de elektrische eigenschappen van uw apparaten te verbeteren. Door siliciumlagen met een hoge zuivere te laten groeien met lage defectdichtheden, zorgen we ervoor dat uw componenten op hun best presteren, met verbeterde mobiliteit van de dragers en geminimaliseerde elektrische weerstand. Deze optimalisatie is van cruciaal belang voor het bereiken van de snelle en hoge effici\u00ebnte kenmerken die worden ge\u00ebist door moderne technologie.<\/span><\/p>\n

Veelzijdigheid in toepassingen<\/strong> Semicera<\/em>\u2019s Si Epitaxy<\/strong> is geschikt voor een breed scala aan toepassingen, waaronder de productie van CMOS -transistoren, Power MOSFET's en bipolaire junctietransistoren. Ons flexibele proces zorgt voor aanpassing op basis van de specifieke vereisten van uw project, of u nu dunne lagen nodig hebt voor hoogfrequente toepassingen of dikkere lagen voor vermogensapparaten.<\/span><\/p>\n

Superieure materiaalkwaliteit<\/strong> Kwaliteit is de kern van alles wat we doen bij Semicera. Ons Si Epitaxy<\/strong> Proces maakt gebruik van ultramoderne apparatuur en technieken om ervoor te zorgen dat elke siliciumlaag voldoet aan de hoogste normen van zuiverheid en structurele integriteit. Deze aandacht voor detail minimaliseert het optreden van defecten die de prestaties van het apparaat kunnen be\u00efnvloeden, wat resulteert in betrouwbaardere en langdurige componenten.<\/span><\/p>\n

Toewijding aan innovatie<\/strong> Semicera<\/em> zet zich in om voorop te blijven in de technologie van halfgeleiders. Ons Si Epitaxy<\/strong> Services weerspiegelen deze inzet, met de nieuwste vooruitgang in epitaxiale groeipechnieken. We verfijnen onze processen continu om siliciumlagen te leveren die voldoen aan de zich ontwikkelende behoeften van de industrie, zodat uw producten concurrerend blijven in de markt.<\/span><\/p>\n

Op maat gemaakte oplossingen voor uw behoeften<\/strong> Begrijpend dat elk project uniek is, Semicera<\/em> biedt aangepast Si Epitaxy<\/strong> Oplossingen om aan uw specifieke behoeften te voldoen. Of u nu specifieke dopingprofielen, laagdiktes of oppervlakte -afwerkingen nodig heeft, ons team werkt nauw met u samen om een \u200b\u200bproduct te leveren dat aan uw precieze specificaties voldoet.<\/span><\/p>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n

\n
\n
\n
\n
\n
\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n\n
\n

Items<\/p>\n<\/td>\n

\n

Productie<\/p>\n<\/td>\n

\n

Onderzoek<\/p>\n<\/td>\n

\n

Stom<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Kristalparameters<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Polytype<\/p>\n<\/td>\n

\n

4H<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Oppervlakte -ori\u00ebntatiefout<\/p>\n<\/td>\n

\n

4\u00b10.15\u00b0<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Elektrische parameters<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Dopant<\/p>\n<\/td>\n

\n

n-type stikstof<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Weerstand<\/p>\n<\/td>\n

\n

0.015-0.025OHM \u00b7 cm<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Mechanische parameters<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Diameter<\/p>\n<\/td>\n

\n

150,0 \u00b1 0,2 mm<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Dikte<\/p>\n<\/td>\n

\n

350 \u00b1 25 \u00b5m<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Primaire platte ori\u00ebntatie<\/p>\n<\/td>\n

\n

[1-100]\u00b15\u00b0<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Primaire platte lengte<\/p>\n<\/td>\n

\n

47,5 \u00b1 1,5 mm<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Secundaire flat<\/p>\n<\/td>\n

\n

Geen<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

TTV<\/p>\n<\/td>\n

\n

\u22645 \u00b5m<\/p>\n<\/td>\n

\n

\u226410 \u00b5m<\/p>\n<\/td>\n

\n

\u226415 \u00b5m<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

LTV<\/p>\n<\/td>\n

\n

\u22643 \u03bcm (5 mm*5 mm)<\/p>\n<\/td>\n

\n

\u22645 \u03bcm (5 mm*5 mm)<\/p>\n<\/td>\n

\n

\u226410 \u03bcm (5 mm*5 mm)<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Boog<\/p>\n<\/td>\n

\n

-15 \u03bcm ~ 15 \u03bcm<\/p>\n<\/td>\n

\n

-35 \u03bcm ~ 35 \u03bcm<\/p>\n<\/td>\n

\n

-45\u03bcm ~ 45 urm<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Kronkelen<\/p>\n<\/td>\n

\n

\u226435 \u00b5m<\/p>\n<\/td>\n

\n

\u226445 \u00b5m<\/p>\n<\/td>\n

\n

\u226455 \u00b5m<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Voorste (si-face) ruwheid (AFM)<\/p>\n<\/td>\n

\n

Ra\u22640,2 nm (5\u03bcm*5\u03bcm)<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Structuur<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Micropipe dichtheid<\/p>\n<\/td>\n

\n

<1 EA\/CM2<\/p>\n<\/td>\n

\n

<10 EA\/CM2<\/p>\n<\/td>\n

\n

<15 EA\/CM2<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Metaalonzuiverheden<\/p>\n<\/td>\n

\n

\u22645E10atoms\/cm2<\/p>\n<\/td>\n

\n

NA<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

BPD<\/p>\n<\/td>\n

\n

\u22641500 EA\/CM2<\/p>\n<\/td>\n

\n

\u22643000 EA\/CM2<\/p>\n<\/td>\n

\n

NA<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

TSD<\/p>\n<\/td>\n

\n

\u2264500 EA\/CM2<\/p>\n<\/td>\n

\n

\u22641000 EA\/CM2<\/p>\n<\/td>\n

\n

NA<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Voorste kwaliteit<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Voorkant<\/p>\n<\/td>\n

\n

Si<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Oppervlakte -afwerking<\/p>\n<\/td>\n

\n

Si-face CMP<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Deeltjes<\/p>\n<\/td>\n

\n

\u226460EA\/wafer (grootte \u2265 0,3 \u03bcm)<\/p>\n<\/td>\n

\n

NA<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Krassen<\/p>\n<\/td>\n

\n

\u22645EA\/mm. Cumulatieve lengte \u2264diameter<\/p>\n<\/td>\n

\n

Cumulatieve lengte \u22642*diameter<\/p>\n<\/td>\n

\n

NA<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Sinaasappelschil\/putten\/vlekken\/strepen\/scheuren\/besmetting<\/p>\n<\/td>\n

\n

Geen<\/p>\n<\/td>\n

\n

NA<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Edge -chips\/inspringen\/breuk\/hexplaten<\/p>\n<\/td>\n

\n

Geen<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Polytype -gebieden<\/p>\n<\/td>\n

\n

Geen<\/p>\n<\/td>\n

\n

Cumulatief gebied \u226420%<\/p>\n<\/td>\n

\n

Cumulatief gebied \u226430%<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Laser markering vooraan<\/p>\n<\/td>\n

\n

Geen<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Rugkwaliteit<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Back Finish<\/p>\n<\/td>\n

\n

C-gezicht CMP<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Krassen<\/p>\n<\/td>\n

\n

\u22645ea\/mm, cumulatieve lengte \u22642*diameter<\/p>\n<\/td>\n

\n

NA<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Achterafwijkingen (randchips\/inspringen)<\/p>\n<\/td>\n

\n

Geen<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Terug ruwheid<\/p>\n<\/td>\n

\n

Ra\u22640,2 nm (5\u03bcm*5\u03bcm)<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Lasergrondbekleding<\/p>\n<\/td>\n

\n

1 mm (van bovenrand)<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Rand<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Rand<\/p>\n<\/td>\n

\n

Schuif<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Verpakking<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

Verpakking<\/p>\n<\/td>\n

\n

Epi-ready met vacu\u00fcmverpakkingen<\/p>\n

Multi-wafer cassette verpakking<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n

\n

*OPMERKINGEN: \"NA\" betekent dat er geen aanvraagitems die niet worden genoemd, verwijzen naar semi-STD.<\/p>\n<\/td>\n<\/tr>\n<\/tbody>\n<\/table><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n

\n
\n
\n
\n
\n
\n
\"tech_1_2_size\" <\/img><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n
\n
\n
\n
\n
\n
\n
\"Sic <\/img><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/p><\/div>\n<\/div>","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

SI Epitaxy\u2013 Bereik superieure apparaatprestaties met SiCera's Si Epitaxy, met precisiegegroeide siliciumlagen voor geavanceerde halfgeleidertoepassingen.<\/p>","protected":false},"featured_media":1027,"comment_status":"closed","ping_status":"open","template":"","meta":[],"product_brand":[],"product_cat":[52,26],"product_tag":[],"class_list":{"0":"post-1393","1":"product","2":"type-product","3":"status-publish","4":"has-post-thumbnail","6":"product_cat-epi-wafer","7":"product_cat-wafer","9":"first","10":"instock","11":"product-type-simple"},"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/www.cn-semiconductorparts.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/product\/1393","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/www.cn-semiconductorparts.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/product"}],"about":[{"href":"https:\/\/www.cn-semiconductorparts.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/types\/product"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.cn-semiconductorparts.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=1393"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.cn-semiconductorparts.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/media\/1027"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/www.cn-semiconductorparts.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=1393"}],"wp:term":[{"taxonomy":"product_brand","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.cn-semiconductorparts.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/product_brand?post=1393"},{"taxonomy":"product_cat","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.cn-semiconductorparts.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/product_cat?post=1393"},{"taxonomy":"product_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.cn-semiconductorparts.com\/nl\/wp-json\/wp\/v2\/product_tag?post=1393"}],"curies":[{"name":"WP","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}