High purity tantalum carbide product customization

TaC coating is a new generation of high temperature resistant material, with better high temperature stability than SiC, as a corrosion resistant coating, oxidation resistant coating, wear resistant coating, can be used in the environment above 2000℃, widely used in aerospace ultra-high temperature hot end parts, the third generation of semiconductor single crystal growth and other fields.

Semicera zapewnia specjalistyczne powłoki węglika tantalu (TAC) dla różnych elementów i nośników. Semicera Semicera leading coating process enables tantalum carbide (TaC) coatings to achieve high purity, high temperature stability and high chemical tolerance, improving product quality of SIC/GAN crystals and EPI layers (Grafit pokryty podatnikiem TAC) oraz przedłużenie żywotności kluczowych elementów reaktora. Zastosowanie powłoki TAC TAC tantalu jest rozwiązanie problemu krawędzi i poprawa jakości wzrostu kryształów, a półcera, przełom rozwiązał technologię powlekania z węglika tantalu (CVD), osiągając międzynarodowy poziom zaawansowany.

 

Po latach rozwoju Semicera podbiła technologię CVD TAC ze wspólnymi wysiłkami działu badań i rozwoju. Wady są łatwe do wystąpienia w procesie wzrostu Wafle SIC, ale po użyciu Tac, the difference is significant. Below is a comparison of wafers with and without TaC, as well as Semicera’ parts for single crystal growth 

b917b6b4-7572-47fe-9074-24d33288257c

WeChat Picture_20240227150045

z TAC i bez

WeChat Picture_20240227150053

Po użyciu TAC (po prawej)

In addition, the service life of Semicera’s TaC coating products is longer and more resistant to high temperature than that of SiC coating. After a long time of laboratory measurement data, our TaC can work for a long time at a maximum of 2300 degrees Celsius. The following are some of our samples:

微信截图_20240227145010

(a) Schematic diagram of SiC single crystal ingot growing device by PVT method (b) Top TaC coated seed bracket (including SiC seed) (c) TAC-coated graphite guide ring

ZDFVzCFV

Main feature

Miejsce pracy półcesy

Półcera robocza miejsce 2

Maszyna sprzętu

Przetwarzanie CNN, czyszczenie chemiczne, powłoka CVD

Nasza usługa

Newletter

Czekamy na Twój kontakt z nami