Graphite is an excellent high-temperature material, but it oxidizes easily at high temperatures. Even in vacuum furnaces with inert gas, it can still undergo slow oxidation. Using a CVD tantalum carbide (TaC) coating can effectively protect the graphite substrate, providing the same high-temperature resistance as graphite. TaC is also an inert material, meaning it will not react with gases such as argon or hydrogen at high temperatures. Inquiry Tantalum Carbide (TaC) Coating Plate now!
Semicera zapewnia specjalistyczne powłoki węglika tantalu (TAC) dla różnych elementów i nośników. Proces powlekania wiodącego półcesy umożliwia powłoki węgla tantalu (TAC) osiągnięcie wysokiej czystości, stabilności wysokiej temperatury i wysokiej tolerancji chemicznej, poprawa jakości produktu kryształów SIC/GAN i warstw EPI (Grafit pokryty podatnikiem TAC) oraz przedłużenie żywotności kluczowych elementów reaktora. Zastosowanie powłoki TAC TAC tantalu jest rozwiązanie problemu krawędzi i poprawa jakości wzrostu kryształów, a półcera, przełom rozwiązał technologię powlekania z węglika tantalu (CVD), osiągając międzynarodowy poziom zaawansowany.
Po latach rozwoju Semicera podbiła technologię CVD TAC ze wspólnymi wysiłkami działu badań i rozwoju. Wady są łatwe do wystąpienia w procesie wzrostu Wafle SIC, ale po użyciu Tac, różnica jest znacząca. Poniżej znajduje się porównanie płytek z TAC i bez, a także części Simicera dla wzrostu pojedynczego kryształu.
Co więcej, Semicera's Produkty pokryte TAC wykazują dłuższą żywotność i większy opór w wysokiej temperaturze w porównaniu z Powłoki sic. Pomiary laboratoryjne wykazały, że nasze Powłoki TAC może konsekwentnie wykonywać w temperaturach do 2300 stopni Celsjusza przez dłuższy czas. Poniżej znajdują się kilka przykładów naszych próbek:
