Łódź opłat

Wafer boats are key components in the semiconductor manufacturing process. Semiera is able to provide wafer boats that are specially designed and produced for diffusion processes, which play a vital role in the manufacture of high integrated circuits. We are firmly committed to providing the highest quality products at competitive prices and look forward to becoming your long-term partner in China.

Advantages

Odporność na utlenianie w wysokiej temperaturze
Doskonała odporność na korozję
Dobra odporność na ścieranie
Wysoki współczynnik przewodności cieplnej
Samoobójstwo, niska gęstość
Wysoka twardość
Dostosowany projekt.

HGF (2)

HGF (1)

Applications

-Pole odporne na zużycie: tuleja, talerz, dyszę piaskową, podszewka cyklonowa, lufa szlifierska itp.…
-Pole w wysokiej temperaturze: płyta SIC, rurka do pieca hartująca, rurka promieniowa, tygiel, element grzewczy, wałek, wiązka, wymiennik ciepła, rura zimnego powietrza, dysza palnika, rura ochronna termopary, łódź SIC, struktura samochodu pieca, setter itp.
-Krzemowy półprzewodnik: łódź waflowa SIC, SIC Chuck, SIC Paddle, SIC Cassette, rurka dyfuzyjna SIC, widelca opłat, płyta ssąca, droga prowadząca itp.
-Krzemowa pieczęć z węglików krzemowych: wszelkiego rodzaju pierścień uszczelniający, łożysko, tuleja itp.
-Pole fotowoltaiczne: łopatka wspornikowa, gałka szlifierska, wałek węgla krzemu itp.
-Pole baterii litowej

WAFER (1)

WAFER (2)

Physical Properties Of SiC

Nieruchomość Wartość Method
Gęstość 3.21 g/cc Sink-float and dimension
Specific heat 0.66 J/g °K Pulsed laser flash
Flexural strength 450 MPa560 MPa 4 point bend, RT4 point bend, 1300°
Fracture toughness 2.94 MPa m1/2 Microindentation
Hardness 2800 Vicker’s, 500g load
Elastic ModulusYoung’s Modulus 450 GPa430 GPa 4 pt bend, RT4 pt bend, 1300 °C
Grain size 2 – 10 µm SEM

Thermal Properties Of SiC

Thermal Conductivity 250 W/m °K Laser flash method, RT
Thermal Expansion (CTE) 4.5 x 10-6 °K Room temp to 950 °C, silica dilatometer

Parametry techniczne

Przedmiot Jednostka Data
RBSiC(SiSiC) NBSiC SSiC RSiC OSiC
Treść sic % 85 75 99 99.9 ≥99
Free silicon content % 15 0 0 0 0
Max service temperature 1380 1450 1650 1620 1400
Gęstość g/cm3 3.02 2.75-2.85 3.08-3.16 2.65-2.75 2.75-2.85
Open porosity % 0 13-15 0 15-18 7-8
Bending strength 20℃ Мpa 250 160 380 100 /
Bending strength 1200℃ Мpa 280 180 400 120 /
Modulus of elasticity 20℃ Gpa 330 580 420 240 /
Modulus of elasticity 1200℃ Gpa 300 / / 200 /
Thermal conductivity 1200℃ W/m.K 45 19.6 100-120 36.6 /
Współczynnik rozszerzalności cieplnej K-1X10-6 4.5 4.7 4.1 4.69 /
HV Kg/mm2 2115 / 2800 / /

The CVD silicon carbide coating on the outer surface of recrystallized silicon carbide ceramic products can reach a purity of more than 99.9999% to meet the needs of customers in the semiconductor industry.

Miejsce pracy półcesy

Półcera robocza miejsce 2

Maszyna sprzętu

Przetwarzanie CNN, czyszczenie chemiczne, powłoka CVD

Nasza usługa

Newletter

Czekamy na Twój kontakt z nami