В кольцах SiC, полученных методом CVD, в качестве сырья используется газ-источник кремния (например, гидрид кремния) и газ-источник углерода (например, метан), которые реагируют при высокой температуре с нанесением крупногабаритных материалов SiC на подложку или форму. Этот процесс позволяет равномерно осаждать SiC на большой площади, образуя прочную и однородную кольцевую структуру.
Кольца RTP CVD SiC широко используются в промышленных и научных областях в условиях высоких температур и агрессивных сред. Он играет важную роль в производстве полупроводников, оптоэлектроники, точного машиностроения и химической промышленности. Конкретные приложения включают в себя:
1. Производство полупроводников: кольца RTP CVD SiC можно использовать для нагрева и охлаждения полупроводникового оборудования, обеспечивая стабильный контроль температуры и гарантируя точность и постоянство процесса.
2. Оптоэлектроника. Благодаря превосходной теплопроводности и устойчивости к высоким температурам кольца RTP CVD SiC могут использоваться в качестве опорных и теплоотводящих материалов для лазеров, волоконно-оптического оборудования связи и оптических компонентов.
3. Прецизионное оборудование: кольца RTP CVD SiC можно использовать для точных инструментов и оборудования, работающих в высокотемпературных и агрессивных средах, таких как высокотемпературные печи, вакуумные устройства и химические реакторы.
4. Химическая промышленность. Благодаря своей коррозионной стойкости и химической стабильности кольца RTP CVD SiC можно использовать в контейнерах, трубах и реакторах в химических реакциях и каталитических процессах.
Производительность продукта:
1. Соответствовать процессу ниже 28 нм
2. Суперкоррозионная стойкость
3. Суперчистая производительность
4. Супер твердость
5. Высокая плотность
6. Устойчивость к высоким температурам
7. Износостойкость
Применение продукта:
Карбидокремниевые материалы обладают характеристиками высокой твердости, износостойкости, коррозионной стойкости и высокой температурной стабильности. Продукты с отличными комплексными характеристиками широко используются в процессах сухого травления и TF/диффузии.
Производительность продукта:
1. Соответствовать процессу ниже 28 нм
2. Суперкоррозионная стойкость
3. Суперчистая производительность
4. Супер твердость
5. Высокая плотность
6. Устойчивость к высоким температурам
7. Износостойкость
Разработка комплексного процесса:
Графит +Sic покрытие
Solide CvD так называемый
Спеченный SiC+CVD
SicСпеченный SiC
Разработка нескольких типов продуктов:
Кольцо
Стол
Суцептор
Насадка для душа
