Покрытие TaC представляет собой новое поколение высокотемпературного материала с лучшей стабильностью при высоких температурах, чем SiC, в качестве коррозионно-стойкого, окислительно-стойкого и износостойкого покрытия, которое может использоваться в среде выше 2000 ℃, широко используется в аэрокосмических сверхвысоких температурах горячих частей, третьем поколении выращивания монокристаллов полупроводников и других областях.
