Зеркало из карбида кремния (SiC Mirror) компании Semicera представляет собой высокопроизводительный прецизионный керамический компонент, предназначенный для передовых оптических и полупроводниковых приложений. Подложка зеркала, изготовленная из карбидокремниевой керамики высокой плотности, сочетает в себе превосходную механическую прочность, легкий вес, высокую теплопроводность и исключительную стабильность размеров.
Карбид кремния — одна из самых твердых доступных инженерных керамик, его твердость по Виккерсу составляет около HV2500 уступает только алмазу. Из-за его высокой твердости и хрупкости прецизионная обработка требует передовых технологий производства. Semicera использует прецизионную обработку и шлифование на станках с ЧПУ для достижения исключительной точности размеров и качества поверхности. При внутреннем и наружном круглом шлифовании допуски размеров можно контролировать в пределах ±0,005 мм , при этом округлость может поддерживаться в пределах ±0,005 мм. Готовые детали имеют гладкую поверхность без заусенцев, пор и трещин, с минимальной шероховатостью поверхности. Ra 0,1 мкм .
Поскольку кремний (Si) и карбид кремния (SiC) обладают превосходной термической совместимостью и могут быть полированы до получения поверхности оптического качества, они широко используются при изготовлении легких оптических зеркал и высокоточных отражающих систем.
Вакуумно-адсорбционная платформа Semicera предназначена для высокоточной промышленной обработки и имеет легкую алюминиевую сотовую структуру в сочетании с превосходной плоскостностью и несущей способностью. Платформа может быть изготовлена в размерах до 1950×3950 мм , более крупные размеры доступны за счет модульного соединения. Прецизионная обработка обеспечивает исключительную плоскостность и жесткость поверхности, а оптимизированная конструкция вакуумных каналов обеспечивает сильное и равномерное всасывание по всей рабочей зоне. Обработка поверхности, такая как Покрытие ПВДФ, анодирование и твердое анодирование может наноситься в соответствии с требованиями применения, обеспечивая повышенную износостойкость и долговечность. Платформа поддерживает полную настройку, включая размеры, расположение вакуумных отверстий, зоны всасывания, конфигурации интерфейсов и расположение вакуумных портов, что делает ее подходящей для полупроводниковой, фотоэлектрической, дисплейной промышленности, прецизионной обработки и автоматизированного производства.
