Диск Semicera с покрытием из карбида кремния для MOCVD разработан для обеспечения исключительных характеристик в процессах химического осаждения металлов и органических соединений из паровой фазы (MOCVD). Благодаря прочному покрытию из карбида кремния этот диск обеспечивает превосходную термическую стабильность, превосходную химическую стойкость и равномерное распределение тепла, обеспечивая оптимальные условия для производства полупроводников и светодиодов. Диски Semicera с покрытием из карбида кремния, которым доверяют лидеры отрасли, повышают эффективность и надежность процессов MOCVD, обеспечивая стабильные и высококачественные результаты.
Диск из карбида кремния для MOCVD от Semicera, высокопроизводительное решение, разработанное для оптимальной эффективности процессов эпитаксиального выращивания. Диск из карбида кремния Semicera обеспечивает исключительную термическую стабильность и точность, что делает его важным компонентом в процессах Si-эпитаксии и SiC-эпитаксии. Разработанный для того, чтобы выдерживать высокие температуры и сложные условия применения MOCVD, этот диск обеспечивает надежную работу и долговечность.
Наш диск из карбида кремния совместим с широким спектром установок MOCVD, включая токопроводящие системы MOCVD, и поддерживает такие сложные процессы, как эпитаксия GaN на SiC. Он также легко интегрируется с системами PSS Etching Carrier, ICP Etching Carrier и RTP Carrier, повышая точность и качество вашей производственной продукции. Независимо от того, используется ли этот диск для производства монокристаллического кремния или для изготовления светодиодных эпитаксиальных датчиков, этот диск обеспечивает исключительные результаты.
Кроме того, диск из карбида кремния Semicera адаптируется к различным конфигурациям, в том числе к конфигурациям блинного токоприемника и бочкового токоприемника, что обеспечивает гибкость в различных производственных условиях. Включение фотоэлектрических деталей еще больше расширяет их применение в солнечной энергетике, делая их универсальным и незаменимым компонентом для современного эпитаксиального выращивания и производства полупроводников.
1. Графит высокой чистоты с покрытием SiC.
2. Превосходная термостойкость и термическая однородность.
3. Мелкие кристаллы SiC с гладким покрытием.
4. Высокая стойкость к химической чистке.
| SiC-CVD | ||
| Плотность | (г/см3) | 3.21 |
| Прочность на изгиб | (МПа) | 470 |
| Тепловое расширение | (10-6/K) | 4 |
| Теплопроводность | (Вт/мК) | 300 |
Возможность поставки:
10000 шт./шт. в месяц
Упаковка и доставка:
Упаковка: стандартная и прочная упаковка
Полиэтиленовый пакет + коробка + коробка + поддон
Порт:
Нинбо/Шэньчжэнь/Шанхай
Время выполнения:
|
Количество (штук) |
1-1000 |
>1000 |
| Стандартное восточное время. Время (дни) | 30 | Для переговоров |