4 Inch High Purity Semi-Insulating HPSI SiC Double-side Polished Wafer Substrate

Semicera’s 4 Inch High Purity Semi-Insulating (HPSI) SiC Double-side Polished Wafer Substrates are precision-engineered for superior electronic performance. These wafers provide excellent thermal conductivity and electrical insulation, ideal for advanced semiconductor applications. Trust Semicera for unparalleled quality and innovation in wafer technology.

Semicera’s 4 Inch High Purity Semi-Insulating (HPSI) SiC Double-side Polished Wafer Substrates are crafted to meet the exacting demands of the semiconductor industry. These substrates are designed with exceptional flatness and purity, offering an optimal platform for cutting-edge electronic devices.

These HPSI SiC wafers are distinguished by their superior thermal conductivity and electrical insulation properties, making them an excellent choice for high-frequency and high-power applications. The double-side polishing process ensures minimal surface roughness, which is crucial for enhancing device performance and longevity.

The high purity of Semicera’s SiC wafers minimizes defects and impurities, leading to higher yield rates and device reliability. These substrates are suitable for a wide range of applications, including microwave devices, power electronics, and LED technologies, where precision and durability are essential.

With a focus on innovation and quality, Semicera utilizes advanced manufacturing techniques to produce wafers that meet the stringent requirements of modern electronics. The double-sided polishing not only improves the mechanical strength but also facilitates better integration with other semiconductor materials.

By choosing Semicera’s 4 Inch High Purity Semi-Insulating HPSI SiC Double-side Polished Wafer Substrates, manufacturers can leverage the benefits of enhanced thermal management and electrical insulation, paving the way for the development of more efficient and powerful electronic devices. Semicera continues to lead the industry with its commitment to quality and technological advancement.

أغراض

إنتاج

بحث

دمية

المعلمات البلورية

polytype

4H

خطأ في اتجاه السطح

4±0.15°

المعلمات الكهربائية

Dopant

نيتروجين من النوع

المقاومة

0.015-0.025OHM · سم 

المعلمات الميكانيكية

قطر

150.0 ± 0.2mm

سماكة

350 ± 25 ميكرون 

الاتجاه المسطح الأولي

[1-100]±5°

طول مسطح أساسي

47.5 ± 1.5mm

شقة ثانوية

لا أحد

TTV

≤5 ميكرون 

≤10 ميكرون 

≤15 ميكرون 

LTV

≤3 ميكرون (5 ملم*5 ملم)     

≤5 ميكرون (5 ملم*5 ملم)     

≤10 ميكرون (5 ملم*5 ملم)     

قَوس

-15μm ~ 15μm

-35μm ~ 35μm

-45μm ~ 45μm

الاعوجاج

≤35 ميكرون 

≤45 ميكرون 

≤55 ميكرون 

الخشونة الأمامية (si-face) (AFM) 

Ra≤0.2nm (5μm*5μm)

بناء

كثافة micropipe 

<1 EA/CM2

<10 EA/CM2

<15 EA/CM2

الشوائب المعدنية

≤5E10atoms/cm2

نا

BPD

≤1500 EA/CM2

≤3000 EA/CM2

نا

TSD

≤500 EA/CM2

≤1000 EA/CM2

نا

الجودة الأمامية

أمام

سي

الانتهاء من السطح

Si-Face CMP

الجزيئات

≤60A/WEFR (SIZE 30.3μM)

نا

الخدوش

≤5ea/مم. الطول التراكمي ≤Diameter  

الطول التراكمي ≤2*القطر  

نا

قشر البرتقال/الحفر/البقع/الدماغ/الشقوق/التلوث

لا أحد

نا

رقائق الحافة/المسافات البادئة/الكسر/الألواح السداسية

لا أحد

المناطق polytype 

لا أحد

منطقة تراكمية 20%  

التراكمية منطقة ≤30%  

وضع علامة ليزر الأمامية

لا أحد

جودة الظهر

الانتهاء من الظهر

C-Face CMP

الخدوش

≤5EA/MM ، الطول التراكمي ≤2*القطر   

نا

عيوب الظهر (رقائق الحافة/المسافات البادئة)

لا أحد

خشونة الظهر

Ra≤0.2nm (5μm*5μm)

عودة ليزر العلامات

1 مم (من الحافة العليا) 

حافة

حافة

شامفر

التغليف

التغليف

جاهز لـ EPI مع تغليف فراغ  

عبوات الكاسيت متعددة الفرس

*الملاحظات : "NA" تعني عدم وجود عناصر طلب لم يتم ذكرها قد تشير إلى Semi.    

tech_1_2_size

رقائق كذا

Newletter

نتطلع إلى اتصالك معنا