41 قطعة 4 بوصة قاعدة الجرافيت أجزاء MOCVD    

● Product introduction and use: Placed 41 pieces of 4 inch substrate, used for the growth of blue-green epitaxial films in LED production
● Device location of the product: in the reaction chamber, in direct contact with the wafer
● Main downstream products: LED chips
● Main end market: LED

وصف

 

 

 

 

 

Our company provides SiC coating process services by CVD method on the surface of graphite, ceramics and other materials, so that special gases containing carbon and silicon react at high temperature to obtain high purity SiC molecules, molecules deposited on the surface of the coated materials, forming a SiC protective layer.

 

 

 

 

 

 

41 قطعة 4 بوصة قاعدة الجرافيت أجزاء MOCVD    

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Main Features

 

 

 

 

 

1. High temperature oxidation resistance:
the oxidation resistance is still very good when the temperature is as high as 1600 ℃.
2. High purity: made by chemical vapor deposition under high temperature chlorination condition.
3. Erosion resistance: high hardness, compact surface, fine particles.
4. Corrosion resistance: acid, alkali, salt and organic reagents.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Main Specifications of CVD-SIC Coating

 

 

 

 

 

خصائص SIC-CVD 
بنية البلورة FCC β phase
كثافة g/cm ³ 3.21
صلابة فيكرز صلابة 2500
حجم الحبوب μm 2~10
نقاء كيميائي % 99.99995
سعة الحرارة J·kg-1 ·K-1 640
درجة حرارة التسامي 2700
قوة فردية MPa  (RT 4-point) 415
Young’ s Modulus GPA (4PT BEND ، 1300 ℃) 430
التمدد الحراري (CTE)  10-6K-1 4.5
الموصلية الحرارية (W/MK) 300

 

 

 

 

 

 

 

 

مكان عمل semicera 

 

 

 

مكان عمل semicera 2 

 

 

 

آلة المعدات

 

 

 

معالجة CNN ، التنظيف الكيميائي ، طلاء CVD   

 

 

 

منزل الأدوات شبه

 

 

 

خدمتنا

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Newletter

نتطلع إلى اتصالك معنا