حاملة الويفر Epitaxy 

Semicera provides high-quality Epitaxy Wafer Carriers designed for Si Epitaxy and SiC Epitaxy processes. Semicera’s products ensure stability and excellent thermal conductivity for various semiconductor applications such as MOCVD Susceptors and Barrel Susceptors. Our products are widely used in the production process of Monocrystalline Silicon with excellent high temperature resistance and material compatibility.

لماذا طلاء كربيد السيليكون؟

Epitaxy Wafer Carrier is a critical component in semiconductor production, especially in Si Epitaxy and SiC Epitaxy processes. Semicera carefully designs and manufactures Wafer Carriers to withstand extremely high temperatures and chemical environments, ensuring excellent performance in applications such as MOCVD Susceptor and Barrel Susceptor. Whether it is the deposition of monocrystalline silicon or complex epitaxy processes, Semicera’s Epitaxy Wafer Carrier provides excellent uniformity and stability.

Semicera’s Epitaxy Wafer Carrier is made of advanced materials with excellent mechanical strength and thermal conductivity, which can effectively reduce losses and instability during the process. In addition, the design of the Wafer Carrier can also adapt to epitaxy equipment of different sizes, thereby improving overall production efficiency.

For customers who require high-precision and high-purity epitaxy processes, Semicera’s Epitaxy Wafer Carrier is a trustworthy choice. We are always committed to providing customers with excellent product quality and reliable technical support to help improve the reliability and efficiency of production processes.

ميزتنا ، لماذا تختار semicera؟  

✓Top-quality in China market

 

✓Good service always for you, 7*24 hours

 

✓Short date of delivery

 

✓Small MOQ welcome and accepted

 

✓Custom services

معدات إنتاج الكوارتز 4 

طلب

حساء النمو epitaxy 

تحتاج رقائق كربيد السيليكون/السيليكون إلى المرور من خلال عمليات متعددة لاستخدامها في الأجهزة الإلكترونية. عملية مهمة هي السيليكون/كذا epitaxy ، حيث يتم تنفيذ رقائق السيليكون/كذا على قاعدة الجرافيت. تشمل المزايا الخاصة لقاعدة الجرافيت المغلفة بالكربيد في سيليكون من Semicera نقاءًا مرتفعًا للغاية ، وطلاء موحد ، وعمر خدمة طويل للغاية. لديهم أيضا مقاومة كيميائية عالية والاستقرار الحراري.     

 

Si Epitaxy Barrel Sectospor

السيليكون epitaxy sectrosor 

Si Epitaxy Pancake Sectospor

سيليكون كربيد epitaxy sectospor 

LED إنتاج رقاقة 

أثناء الطلاء الواسع لمفاعل MOCVD ، تنقل قاعدة الكواكب أو الناقل رقاقة الركيزة. إن أداء المادة الأساسية له تأثير كبير على جودة الطلاء ، مما يؤثر بدوره على معدل خردة الشريحة. تزيد القاعدة المغلفة بالسيليكون المغطاة بالكربيد في Semicera من كفاءة تصنيع رقائق LED عالية الجودة وتقلل من انحراف الطول الموجي. نحن أيضًا نوفر مكونات جرافيت إضافية لجميع مفاعلات MOCVD المستخدمة حاليًا. يمكننا أن نغطى أي مكون تقريبًا مع طلاء كربيد السيليكون ، حتى لو كان قطر المكون يصل إلى 1.5 متر ، فلا يزال بإمكاننا التغلب على كربيد السيليكون.          

قاد epitaxy sectospor 

قاد epitaxy sectospor 

مجال أشباه الموصلات ، عملية نشر الأكسدة، إلخ.  

في عملية أشباه الموصلات ، تتطلب عملية توسيع الأكسدة نقاءًا عاليًا للمنتج ، وفي Semicera نقدم خدمات طلاء مخصصة و CVD لغالبية أجزاء كربيد السيليكون.     

تُظهر الصورة التالية ملاط ​​كربيد السيليكون الذي تم تجهيزه من Semicea وأنبوب فرن كربيد السيليكون الذي يتم تنظيفه في 100   0-مستوى  خالية من الغبار room. Our workers are working before coating. The purity of our silicon carbide can reach 99.98%, and the purity of sic coating is greater than 99.9995%.

منتج شبه مقلوب من سيليكون كربيد قبل الطلاء -2 

مجداف كربيد السيليكون الخام وأنبوب عملية كذا في انشقاق

أنبوب كذا

سيليكون كربيد القارب الويفر CVD كذا المغلفة  

بيانات SEMI-CERA 'CVD SIC Performace. 

بيانات طلاء CVD SIC CVD شبه CVD   

نقاء كذا

مكان عمل semicera 

مكان عمل semicera 2 

منزل الأدوات شبه

آلة المعدات

معالجة CNN ، التنظيف الكيميائي ، طلاء CVD   

خدمتنا

Newletter

نتطلع إلى اتصالك معنا