Semicera’s High Purity Porous Tantalum Carbide Coated Barrel is specifically designed for silicon carbide (SiC) crystal growth furnaces. Featuring a high-purity tantalum carbide coating and a porous structure, this barrel provides exceptional thermal stability and resistance to chemical corrosion. Semicera’s advanced coating technology ensures long-lasting performance and efficiency in SiC crystal growth processes, making it an ideal choice for demanding semiconductor applications.
Porous tantalum carbide coated barrel is tantalum carbide as the main coating material, tantalum carbide has excellent corrosion resistance, wear resistance and high temperature stability. It can effectively protect the base material from chemical erosion and high temperature atmosphere. The base material usually has the characteristics of high temperature resistance and corrosion resistance. It can provide good mechanical strength and chemical stability, and at the same time serve as the supporting basis of the tantalum carbide coating.
يوفر Semicera الطلاءات المتخصصة في Tantalum Carbide (TAC) لمختلف المكونات والناقلات. تتيح عملية الطلاء الرائدة في Semicera الطلاء Tantalum Carbide (TAC) لتحقيق نقاء مرتفع ، واستقرار ارتفاع درجات الحرارة والتسامح الكيميائي العالي ، وتحسين جودة المنتج من بلورات SIC/GAN وطبقات EPI ( غلاك تاك المغلفة بالجرافيت) ، وتوسيع عمر مكونات المفاعل الرئيسية. يتمثل استخدام طلاء Tantalum Carbide TAC في حل مشكلة الحافة وتحسين جودة نمو البلورة ، وقد حلت Semicera اختراق تقنية طلاء كربيد Tantalum (CVD) ، حيث وصلت إلى المستوى المتقدم الدولي.
علاوة على ذلك ، Semicera's المنتجات المغلفة TAC إظهار عمر خدمة أطول ومقاومة أكبر درجات الحرارة مقارنة بـ الطلاء كذا. لقد أظهرت قياسات المختبر أن الطلاء TAC يمكن أن تؤدي باستمرار في درجات حرارة تصل إلى 2300 درجة مئوية لفترات طويلة. فيما يلي بعض الأمثلة على عيناتنا:
