تعتبر مرآة كربيد السيليكون (SiC Mirror) من Semicera مكونًا سيراميكيًا دقيقًا عالي الأداء مصممًا للتطبيقات البصرية وأشباه الموصلات المتقدمة. مصنوعة من سيراميك كربيد السيليكون عالي الكثافة، تجمع ركيزة المرآة بين القوة الميكانيكية الممتازة، وخصائص الوزن الخفيف، والتوصيل الحراري العالي، وثبات الأبعاد المتميز.
يعد كربيد السيليكون واحدًا من أصعب أنواع السيراميك الهندسي المتاحة، حيث تبلغ صلابة فيكرز تقريبًا HV2500 ، في المرتبة الثانية بعد الماس. نظرًا لصلابتها العالية وهشاشتها، تتطلب الآلات الدقيقة تكنولوجيا تصنيع متقدمة. تستخدم Semicera عمليات التصنيع والطحن الدقيقة باستخدام الحاسب الآلي لتحقيق دقة أبعاد استثنائية وجودة سطحية. أثناء الطحن الأسطواني الداخلي والخارجي، يمكن التحكم في تفاوتات الأبعاد في الداخل ±0.005 ملم ، في حين يمكن الحفاظ على الاستدارة ضمن ± 0.005 مم. تتميز المكونات النهائية بأسطح ناعمة بدون نتوءات أو مسام أو شقوق، مع خشونة سطحية منخفضة تصل إلى را 0.1 ميكرومتر .
نظرًا لأن السيليكون (Si) وكربيد السيليكون (SiC) يظهران توافقًا حراريًا ممتازًا ويمكن صقلهما للحصول على تشطيبات سطحية من الدرجة البصرية، فإنهما يستخدمان على نطاق واسع في تصنيع المرايا الضوئية خفيفة الوزن والأنظمة العاكسة عالية الدقة.
تم تصميم منصة امتزاز الفراغ من Semicera لتطبيقات المعالجة الصناعية عالية الدقة، وتتميز بهيكل قرص العسل خفيف الوزن من الألومنيوم جنبًا إلى جنب مع التسطيح الممتاز والقدرة على تحمل الأحمال. يمكن تصنيع المنصة بأحجام تصل إلى 1950 × 3950 ملم ، بأبعاد أكبر متاحة من خلال الربط المعياري. تضمن المعالجة الدقيقة تسطيحًا وصلابة رائعة للسطح، في حين يوفر تصميم قناة التفريغ الأمثل شفطًا قويًا وموحدًا عبر منطقة العمل بأكملها. المعالجات السطحية مثل طلاء PVDF، والأنودة، والأنودة الصلبة يمكن تطبيقه وفقًا لمتطلبات التطبيق، مما يوفر مقاومة تآكل ومتانة معززة. تدعم المنصة التخصيص الكامل، بما في ذلك الأبعاد، وتصميم فتحة الفراغ، ومناطق الشفط، وتكوينات الواجهة، وترتيبات منافذ الفراغ، مما يجعلها مناسبة لصناعات أشباه الموصلات، والخلايا الكهروضوئية، ولوحة العرض، والآلات الدقيقة، والصناعات التحويلية الآلية.
