Silicon carbide (SiC) is a key material in the third generation of semiconductors, but its yield rate has been a limiting factor for industry growth. After extensive testing in Semicera’s laboratories, it has been found that sprayed and sintered TaC lacks the necessary purity and uniformity. In contrast, the CVD process ensures a purity level of 5 PPM and excellent uniformity. The use of CVD TaC significantly improves the yield rate of silicon carbide wafers. We welcome discussionsTantalum Carbide CVD Coating Guide Ringto further reduce the costs of SiC wafers.
Semicera bietet spezielle Tantal -Carbid -Beschichtungen (TAC) für verschiedene Komponenten und Träger. Das führende Beschichtungsprozess von Semizera ermöglicht Tantal -Carbid (TAC) -Hellbeschichtungen, um eine hohe Reinheit, hohe Temperaturstabilität und hohe chemische Toleranz zu erzielen, die Produktqualität von SIC/GaN -Kristallen und EPI -Schichten zu verbessern (SchichtenGraphitbeschichtete TAC -Suszeptor) und die Lebensdauer von Schlüsselreaktorkomponenten verlängern. Die Verwendung von Tantal -Carbid -TAC -Beschichtung besteht darin, das Edgeproblem zu lösen und die Qualität des Kristallwachstums zu verbessern. Semizera hat den Durchbruch die Tantal -Carbidbeschichtungstechnologie (CVD) durch einen Durchbruch und erreicht das internationale Fortgeschrittenen.
Silicon carbide (SiC) is a key material in the third generation of semiconductors, but its yield rate has been a limiting factor for industry growth. After extensive testing in Semicera’s laboratories, it has been found that sprayed and sintered TaC lacks the necessary purity and uniformity. In contrast, the CVD process ensures a purity level of 5 PPM and excellent uniformity. The use of CVD TaC significantly improves the yield rate of silicon carbide wafers. We welcome discussions Tantalum Carbide CVD Coating Guide Ring to further reduce the costs of SiC wafers.
After years of development, Semicera has conquered the technology of CVD TaC with the joint efforts of the R&D department. Defects are easy to occur in the growth process of SiC wafers, but after using TaC, the difference is significant. Below is a comparison of wafers with and without TaC, as well as Simicera’ parts for single crystal growth.
Außerdem, Semicera TAC-beschichtete Produkte zeigen eine längere Lebensdauer und einen größeren Widerstand mit hohem Temperatur im Vergleich zu SiC -Beschichtungen. Labormessungen haben gezeigt, dass unsere TAC -Beschichtungen kann bei Temperaturen von bis zu 2300 Grad Celsius für längere Perioden konsequent funktionieren. Im Folgenden finden Sie einige Beispiele für unsere Proben:
