With the advent of 8-inch silicon carbide (SiC) wafers, the requirements for various semiconductor processes have become increasingly stringent, especially for epitaxy processes where temperatures can exceed 2000 degrees Celsius. Traditional susceptor materials, such as graphite coated with silicon carbide, tend to sublimate at these high temperatures, disrupting the epitaxy process. However, CVD tantalum carbide (TaC) effectively addresses this issue, withstanding temperatures up to 2300 degrees Celsius and offering a longer service life. Contact Semicera’sTantalum Carbide TaC CVD Coating Custom Partsto explore more about our advanced solutions.
Semicera bietet spezielle Tantal -Carbid -Beschichtungen (TAC) für verschiedene Komponenten und Träger. Das führende Beschichtungsprozess von Semizera ermöglicht Tantal -Carbid (TAC) -Hellbeschichtungen, um eine hohe Reinheit, hohe Temperaturstabilität und hohe chemische Toleranz zu erzielen, die Produktqualität von SIC/GaN -Kristallen und EPI -Schichten zu verbessern (SchichtenGraphitbeschichtete TAC -Suszeptor) und die Lebensdauer von Schlüsselreaktorkomponenten verlängern. Die Verwendung von Tantal -Carbid -TAC -Beschichtung besteht darin, das Edgeproblem zu lösen und die Qualität des Kristallwachstums zu verbessern. Semizera hat den Durchbruch die Tantal -Carbidbeschichtungstechnologie (CVD) durch einen Durchbruch und erreicht das internationale Fortgeschrittenen.
With the advent of 8-inch silicon carbide (SiC) wafers, the requirements for various semiconductor processes have become increasingly stringent, especially for epitaxy processes where temperatures can exceed 2000 degrees Celsius. Traditional susceptor materials, such as graphite coated with silicon carbide, tend to sublimate at these high temperatures, disrupting the epitaxy process. However, CVD tantalum carbide (TaC) effectively addresses this issue, withstanding temperatures up to 2300 degrees Celsius and offering a longer service life. Contact Semicera’s Tantalum Carbid TAC CVD -Beschichtung benutzerdefinierte Teile to explore more about our advanced solutions.
After years of development, Semicera has conquered the technology of CVD TaC with the joint efforts of the R&D department. Defects are easy to occur in the growth process of SiC wafers, but after using TaC, the difference is significant. Below is a comparison of wafers with and without TaC, as well as Simicera’ parts for single crystal growth.
Außerdem, Semicera TAC-beschichtete Produkte zeigen eine längere Lebensdauer und einen größeren Widerstand mit hohem Temperatur im Vergleich zu SiC -Beschichtungen. Labormessungen haben gezeigt, dass unsere TAC -Beschichtungen kann bei Temperaturen von bis zu 2300 Grad Celsius für längere Perioden konsequent funktionieren. Im Folgenden finden Sie einige Beispiele für unsere Proben:
