High-Temperature SiC Coating Graphite Wafer Susceptor for MOCVD Epitaxial Growth

El Susceptor SiC Coating Graphite Wafer de Semicera es una solución premium para los procesos de MOCVD (Deposición de vapor químico metal-orgánico), diseñado para ofrecer estabilidad térmica excepcional, resistencia a la corrosión y longevidad. Fabricado a partir de carburo de silicio de alta pureza (SiC) y grafito avanzado, este susceptor garantiza una distribución de calor uniforme y un rendimiento fiable en entornos extremos, lo que permite un crecimiento epitaxial sin defecto de materiales semiconductores como GaN, SiC y LEDs.

Aplicaciones de productos

  1. Fabricación de semiconductores

    • Ideal para la deposición epitaxial de los semiconductores GaN, SiC y III-V.

    • Crítico para producir LEDs de alto rendimiento, dispositivos RF y electrónica de potencia.

  2. Research " Development

    • Confía en laboratorios para estudios de materiales avanzados y prototipado semiconductor de próxima generación.

  3. Industrial MOCVD Sistemas

    • Compatible con el equipo líder de MOCVD para la producción masiva de componentes optoelectrónicos.


Key Advantages

  1. Durabilidad inigualable

    • El recubrimiento SiC aumenta la resistencia al choque térmico, la corrosión química y el desgaste mecánico, ampliando la vida útil en 3x en comparación con los susceptores de grafito tradicionales.

  2. Uniformidad térmica superior

    • Diseñado para la uniformidad de temperatura ±1.5% a través de la superficie de la ola, minimizando defectos en capas depositadas.

  3. Estabilidad de alta temperatura

    • Funciona perfectamente a temperaturas de hasta 1.800°C, manteniendo la integridad estructural en entornos duros de MOCVD.

  4. Eficiencia de los costos

    • Reduce los costes de inactividad y reemplazo gracias a la durabilidad prolongada y el rendimiento consistente.


Características del producto

  1. Composición de material Premium

    • Combina grafito isostático de alta pureza con un recubrimiento SiC denso y sin defecto para una resistencia térmica y química óptima.

  2. Diseños personalizable

    • Disponible en geometrías a medida (por ejemplo, tortitas, verticales, horizontales) para adaptarse a diversas configuraciones de reactores.

  3. Precision Engineering

    • Acabado superficial ultra-smooth (traducido0.5 μm Ra) garantiza una mínima contaminación de partículas durante la deposición.

  4. Respuesta térmica rápida

    • El bajo diseño de masa térmica acelera los ciclos de calefacción y refrigeración, potenciando la eficiencia del proceso.


¿Por qué elegir Semicera?

  • Industry Expertise: Respaldado por 15 años de experiencia en soluciones cerámicas avanzadas para aplicaciones semiconductoras.

  • Garantía de calidad: Las pruebas rígoras bajo protocolos certificados ISO garantizan la consistencia del rendimiento.

  • Global Support: Equipo técnico dedicado disponible para soluciones personalizadas y entrega rápida.

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