Graphite Susceptor with Silicon Carbide Coating 6 pieces 6 inch wafer Carrier

Semicera offre una gamma completa di suscettori e componenti di grafite progettati per vari reattori epitassia. Attraverso partenariati strategici con OEM leader del settore, ampie competenze sui materiali e capacità di produzione avanzate, Semicera offre progetti su misura per soddisfare i requisiti specifici dell'applicazione. Il nostro impegno per l'eccellenza ti assicura di ricevere soluzioni ottimali per le esigenze del reattore epitassia.

Descrizione del prodotto

Nei processi ad alta temperatura (ad es. CVD, MOCVD, crescita epitassiale) nel semiconduttore, fotovoltaico e nuove industrie energetiche, la durata e la stabilità dei portatori di wafer hanno un impatto diretto sulla produttività e sui costi. I vettori di grafite con rivestimento in carburo di silicio da 6 pollici (confezione di 6) da semiconduttori a semicera sono specificamente progettati per ambienti di processo duri e offrono una soluzione ad alta temperatura, resistente alla corrosione e di lunga durata alla tua linea di produzione, con materiali e tecnologie all'avanguardia. Linea di produzione con materiali all'avanguardia e tecnologia di processo per fornire una soluzione ad alta temperatura, resistente alla corrosione e di lunga durata che aiuta a ridurre i tempi di inattività e migliorare la coerenza della capacità.

Vantaggi del core: perché scegliere i vettori di grafite rivestiti in carburo di silicio di Semicera?

1.Feratore per la vita più lunga
Tecnologia di rivestimento in carburo di silicio CVD: carburo di silicio ad alta purezza (SIC) è uniformemente rivestito sulla superficie, il che migliora significativamente la resistenza all'ossidazione ad alta temperatura (fino a 1600 ° C+) e alla corrosione chimica ed evita il substrato di grafite dal reagire con i gas di processo, riducendo il rischio di contaminazione di wafer.

Tasso di spargimento di particelle ultra-bassa: il processo di rivestimento di precisione garantisce una superficie liscia e densa, riduce i graffi del wafer e la contaminazione da particelle e garantisce la resa del processo.

2. Progettazione di produzione ad alta efficienza, riducendo i costi complessivi
Configurazione standardizzata a 6 pezzi: adattarsi alle linee di produzione di wafer da 6 pollici mainstream, elaborazione batch di supporto, accorciare il ciclo di processo e aumentare la capacità di produzione.

Eccellente corrispondenza del coefficiente di espansione termica: il substrato di grafite e il rivestimento in carburo di silicio sono altamente compatibili con le proprietà termiche, garantendo la stabilità strutturale ad alte temperature, riducendo la deformazione e il cracking ed estendendo la durata del servizio a più di 3 volte di quelli ordinari di grafite.

3. Assicurazione della qualità del processo fulll, consegna senza preoccupazioni
Standard di controllo di qualità rigorosi: dal substrato di grafite isostatico di alta purezza al processo di rivestimento, l'intero processo passa test SEM/EDS e soddisfa le specifiche del settore ASTM e dei semiconduttori.

Risposta rapida alla personalizzazione: supportare la regolazione delle dimensioni, dello spessore del rivestimento e di altri parametri per soddisfare le esigenze di processi speciali.

Parametri tecnici

  • Materiale: mafite isostatico + rivestimento in carburo di silicio CVD
  • Dimensione del wafer applicabile: 6 pollici
  • Capacità di caricamento singolo: 6 wafer
  • Temperatura di lavoro massima: 1600 ° C (ambiente di gas inerte)
  • Spessore di rivestimento: 80-120μm (personalizzabile)
  • Rugosità superficiale: RA ≤0,8μm

Scenari dell'applicazione: collegamenti di processo chiave di scorta

  1. Produzione di semiconduttori: epitassia al silicio, deposizione GAN, produzione di dispositivi in ​​carburo di silicio
  2. Campo fotovoltaico: rivestimento CVD per wafer a celle solari ad alta efficienza
  3. Nuovi materiali energetici: sinterizzazione ad alta temperatura di materiali anodi al litio

Quattro motivi per scegliere il semiconduttore

✅ Profonda profonda nel settore per quasi un decennio: specializzato in R&D di componenti di base per semiconduttori dal 2015, al servizio di oltre 200 clienti in tutto il mondo, tra cui le aziende fotovoltarie di primo livello e semiconduttori.
✅ Innovazione guidata dalla tecnologia: abbiamo imparato la tecnologia principale del rivestimento in carburo di silicio CVD e abbiamo ricevuto la certificazione ISO 9001 e molti brevetti.
✅ Impegno di produzione sostenibile: adottare processi di produzione verde, ridurre il consumo di energia e le emissioni di rifiuti e praticare la responsabilità sociale.
✅ Supporto del servizio a ciclo completo: dalla selezione e dalla consultazione alla manutenzione post-vendita, il team professionale fornisce una risposta tecnica di 24 ore.
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Sia che tu stia costruendo una nuova linea di produzione o che sostituirà un vecchio vettore, i vettori di grafite rivestiti in carburo di silicio di Semicera saranno il tuo partner affidabile nel migliorare la tua competitività con un costo complessivo inferiore e una maggiore stabilità dei processi.

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