41 pieces 4 inch graphite base MOCVD equipment parts

● Product introduction and use: Placed 41 pieces of 4 inch substrate, used for the growth of blue-green epitaxial films in LED production
● Device location of the product: in the reaction chamber, in direct contact with the wafer
● Main downstream products: LED chips
● Main end market: LED

Beschrijving

 

 

 

 

 

Our company provides SiC coating process services by CVD method on the surface of graphite, ceramics and other materials, so that special gases containing carbon and silicon react at high temperature to obtain high purity SiC molecules, molecules deposited on the surface of the coated materials, forming a SiC protective layer.

 

 

 

 

 

 

41 pieces 4 inch graphite base MOCVD equipment parts

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Hoofdkenmerken

 

 

 

 

 

1. Oxidatieweerstand op hoge temperatuur:
the oxidation resistance is still very good when the temperature is as high as 1600 ℃.
2. Hoge zuiverheid: gemaakt door chemische dampafzetting onder chloreringstoestand op hoge temperatuur.
3. Erosiebestendigheid: hoge hardheid, compact oppervlak, fijne deeltjes.
4. Corrosieweerstand: zuur, alkali, zout en organische reagentia.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Hoofdspecificaties van CVD-SIC-coating

 

 

 

 

 

SIC-CVD-eigenschappen
Kristalstructuur FCC β phase
Dikte g/cm ³ 3.21
Hardheid Vickers Hardheid 2500
Korrelgrootte μm 2~10
Chemische zuiverheid % 99.99995
Warmtecapaciteit J·kg-1 ·K-1 640
Sublimatietemperatuur 2700
Felexurale kracht MPa  (RT 4-point) 415
Young’ s Modulus GPA (4pt Bend, 1300 ℃) 430
Thermische expansie (CTE) 10-6K-1 4.5
Thermische geleidbaarheid (W/mk) 300

 

 

 

 

 

 

 

 

Semicera werkplek

 

 

 

Semicera werkplek 2

 

 

 

Apparatuurmachine

 

 

 

CNN -verwerking, chemische reiniging, CVD -coating

 

 

 

Semicera Ware House

 

 

 

Onze service

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Nieuwbrief

Ik kijk uit naar uw contact met ons