Sic epitaxie

Semicera biedt aangepaste dunne film (siliciumcarbide) SIC -epitaxie op substraten voor de ontwikkeling van siliciumcarbide -apparaten. Weitai streeft naar het leveren van kwaliteitsproducten en concurrerende prijzen, en we kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te zijn.

SIC Epitaxy (2) (1)

Productbeschrijving

4H-N 4inch 6inch Dia100mm sic zaadwafer 1 mm dikte voor ingot groei

Aangepaste maat/2inch/3inch/4inch/6inch 6h-n/4h-semi/4h-n sic ingots/hoge zuiverheid 4h-n 4inch 6inch dia 150 mm silicium carbide single crystal (sic) substraten wafels/custom

Over siliciumcarbide (sic) kristal  

Siliconencarbide (SIC), ook bekend als carborundum, is een halfgeleider met silicium en koolstof met chemische formule SIC. SIC wordt gebruikt in halfgeleider-elektronica-apparaten die werken bij hoge temperaturen of hoogspanningen, of beide. SiC is ook een van de belangrijke LED-componenten, het is een populair substraat voor het kweken van GAN-apparaten, en het dient ook als een warmteverspreider in LED's met een hoog vermogen.

Beschrijving

Eigendom

4H-SIC, enkel kristal

6H-SIC, enkel kristal

Roosterparameters

A = 3.076 Å C = 10.053 Å

A = 3.073 Å C = 15.117 Å

Stapelsequentie

ABCB

ABCACB

Mohs hardheid

≈9.2

≈9.2

Dikte

3.21 g/cm3

3.21 g/cm3

Therm. Uitbreidingscoëfficiënt

4-5 × 10-6/K

4-5 × 10-6/K

Brekingsindex @750 nm

Nee = 2.61
NE = 2,66

Nee = 2,60
NE = 2,65

Diëlektrische constante

C ~ 9.66

C ~ 9.66

Thermische geleidbaarheid (n-type, 0,02 ohm.cm)

A ~ 4.2 W/cm · K@298K
C ~ 3,7 W/cm · K@298K

 

Thermische geleidbaarheid (semi-insulerend)

A ~ 4,9 W/cm · K@298K
C ~ 3,9 W/cm · K@298K

A ~ 4,6 W/cm · K@298K
C ~ 3.2 W/cm · K@298K

Staartschakel

3.23 eV

3.02 eV

BRACK-DOWN ELEKTRISCHE VELD

3-5 × 106V/cm

3-5 × 106V/cm

Verzadigingsafwijkingssnelheid

2.0 × 105m/s

2.0 × 105m/s

Sic wafels

Semicera werkplek Semicera werkplek 2 Apparatuurmachine CNN -verwerking, chemische reiniging, CVD -coating Onze service

Nieuwbrief

Ik kijk uit naar uw contact met ons