Semicera’s PSS Processing Carrier for Semiconductor Wafer Transmission is engineered for efficient handling and transfer of semiconductor wafers during manufacturing processes. Made from high-quality materials, this carrier ensures precise alignment, minimal contamination, and smooth wafer transport. Designed for the semiconductor industry, Semicera’s PSS carriers enhance process efficiency, reliability, and yield, making them an essential component in wafer processing and handling applications.
Product Description
Our company provides SiC coating process services by CVD method on the surface of graphite, ceramics and other materials, so that special gases containing carbon and silicon react at high temperature to obtain high purity SiC molecules, molecules deposited on the surface of the coated materials, forming SIC protective layer.
Main features:
1. Resistência a oxidação de alta temperatura:
A resistência da oxidação ainda é muito boa quando a temperatura é tão alta quanto 1600 C.
2. High purity : made by chemical vapor deposition under high temperature chlorination condition.
3. Resistência à erosão: alta dureza, superfície compacta, partículas finas.
4. Resistência à corrosão: ácido, álcalis, sal e reagentes orgânicos.
Principais especificações do revestimento CVD-SIC
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Propriedades SIC-CVD |
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Estrutura cristalina |
Fase β da FCC |
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Densidade |
g/cm ³ |
3.21 |
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Dureza |
Vickers dureza |
2500 |
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Tamanho de grão |
mm |
2~10 |
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Pureza química |
% |
99.99995 |
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Capacidade de calor |
J · kg-1 · k-1 |
640 |
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Temperatura da sublimação |
℃ |
2700 |
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Força felexural |
MPA (RT 4 pontos) |
415 |
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Young’ s Modulus |
GPA (4pt Bend, 1300 ℃) |
430 |
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Expansão térmica (CTE) |
10-6K-1 |
4.5 |
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Condutividade térmica |
(W/mk) |
300 |
