36 peças de peças de equipamento MOCVD com base de grafite de 4 polegadas

● Introdução e uso do produto: Colocação de 36 peças de substrato de 4 polegadas, usadas para o crescimento de filmes epitaxiais azul-esverdeados na produção de LED
● Localização do dispositivo do produto: na câmara de reação, em contato direto com o wafer
● Principais produtos a jusante: chips LED
● Mercado final principal: LED

Descrição

 

 

 

 

 

Nossa empresa fornece serviços de processo de revestimento de SiC pelo método CVD na superfície de grafite, cerâmica e outros materiais, para que gases especiais contendo carbono e silício reajam em alta temperatura para obter moléculas de SiC de alta pureza, moléculas depositadas na superfície dos materiais revestidos, formando camada protetora SIC.

 

 

 

 

 

 

Base de grafite--36

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Principais recursos

 

 

 

 

 

1. Resistência à oxidação em alta temperatura:
a resistência à oxidação ainda é muito boa quando a temperatura chega a 1600 C.
2. Alta pureza: feita por deposição química de vapor sob condições de cloração de alta temperatura.
3. Resistência à erosão: alta dureza, superfície compacta, partículas finas.
4. Resistência à corrosão: ácidos, álcalis, sal e reagentes orgânicos.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Principais especificações do revestimento CVD-SIC

 

 

 

 

 

Propriedades SiC-CVD
Estrutura Cristalina Fase β do FCC
Densidade g/cm³ 3.21
Dureza Dureza Vickers 2500
Tamanho do grão milímetros 2~10
Pureza Química % 99.99995
Capacidade de calor J·kg-1·K-1 640
Temperatura de Sublimação 2700
Força Felexural MPa (TR 4 pontos) 415
Módulo de Young Gpa (curvatura de 4 pontos, 1300°C) 430
Expansão Térmica (CTE) 10-6K-1 4.5
Condutividade térmica (W/mK) 300

 

 

 

 

 

 

 

 

Local de trabalho semicera

 

 

 

Local de trabalho de Semicera 2

 

 

 

Máquina de equipamento

 

 

 

Processamento CNN, limpeza química, revestimento CVD

 

 

 

Armazém Semicera

 

 

 

Nosso serviço

 

 

 

 

 

 

 

 

 

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