Anel siC de CVD a granel

Os anéis SiC CVD a granel usam gás-fonte de silício (como hidreto de silício) e gás-fonte de carbono (como metano) como matérias-primas, reagindo a alta temperatura para depositar materiais SiC de tamanho grande em um substrato ou molde. Esse processo permite que o SIC seja depositado uniformemente em uma grande área, formando uma estrutura de anéis forte e consistente.

Por que o anel de gravação de carboneto de silício é?

RTP CVD SiC rings are widely used in industrial and scientific fields in high temperature and corrosive environments. It plays an important role in semiconductor manufacturing, optoelectronics, precision machinery and chemical industry. Specific applications include:

1. Semiconductor manufacturing: RTP CVD SiC rings can be used for heating and cooling of semiconductor equipment, providing stable temperature control and ensuring the accuracy and consistency of the process.

2. Optoelectronics: Due to its excellent thermal conductivity and high temperature resistance, RTP CVD SiC rings can be used as support and heat dissipation materials for lasers, fiber optic communication equipment and optical components.

3. Máquinas de precisão: RTP CVD SiC pode ser usado para instrumentos e equipamentos de precisão em ambientes de alta temperatura e corrosivos, como fornos de alta temperatura, dispositivos de vácuo e reatores químicos.

4. Indústria química: devido à sua resistência à corrosão e estabilidade química, os anéis RTP CVD SiC podem ser usados em recipientes, tubos e reatores em reações químicas e processos catalíticos.

Sistema epi

Sistema RTP

Sistema CVD

Desempenho do produto:

1. Conheça o processo abaixo de 28nm

2. Resistência à super corrosão

3. Desempenho super limpo

4. Super dureza

5. Alta densidade

6. Resistência a alta temperatura

7. Resistência ao desgaste

Aplicação do produto:

Os materiais de carboneto de silício têm as características de alta dureza, resistência ao desgaste, resistência à corrosão e estabilidade de alta temperatura. Os produtos com excelente desempenho abrangente são amplamente utilizados nos processos de gravação a seco e TF/difusão.