Susceptor de grafite com revestimento de carboneto de silício 6 peças portador de wafer de 6 polegadas

A Semicera oferece uma linha abrangente de susceptores e componentes de grafite projetados para vários reatores de epitaxia (como MOCVD, CVD). Através de parcerias estratégicas com OEMs líderes do setor, ampla experiência em materiais e recursos avançados de fabricação, a Semicera oferece projetos personalizados para atender aos requisitos específicos de sua aplicação. Nosso compromisso com a excelência garante que você receba soluções ideais em termos de uniformidade térmica, durabilidade e muito mais para suas necessidades de reator epitaxídico.

Descrição

 

 

 

 

 

O susceptor de grafite com revestimento de carboneto de silício, transportador de wafer de 6 peças e 6 polegadas da semicera oferece durabilidade e condutividade térmica excepcionais para aplicações de crescimento epitaxial de alto desempenho. A Semicera é especializada em susceptores avançados projetados para aprimorar processos como Si Epitaxy e SiC Epitaxy, garantindo desempenho confiável em ambientes exigentes de semicondutores.

Este susceptor foi projetado especificamente para uso com sistemas MOCVD Susceptor e oferece compatibilidade com vários transportadores, como PSS Etching Carrier, ICP Etching Carrier e RTP Carrier. É ideal para produção de silício monocristalino e configurações de susceptor epitaxial de LED, oferecendo versatilidade em diferentes configurações, incluindo designs de susceptor de barril e susceptor de panqueca.

O Susceptor de Grafite com Revestimento de Carboneto de Silício também suporta aplicações no setor de energia solar através de sua integração com Peças Fotovoltaicas e se destaca em processos de GaN em SiC Epitaxy. Sua capacidade de suporte de wafer de 6 polegadas garante alto rendimento, tornando-o uma ferramenta essencial para fabricantes das indústrias de semicondutores e fotovoltaicas.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Principais recursos

 

 

 

 

 

1. Grafite revestida com SiC de alta pureza

2. Resistência superior ao calor e uniformidade térmica

3. Cristal SiC fino revestido para uma superfície lisa

4. Alta durabilidade contra limpeza química

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Principais Especificações dos Revestimentos CVD-SIC:

 

 

 

 

 

SiC-CVD
Densidade (g/cc) 3.21
Resistência à flexão (Mpa) 470
Expansão térmica (10-6/K) 4
Condutividade térmica (W/mK) 300

 

 

 

 

 

 

 

 

Embalagem e Envio

 

 

 

 

 

Capacidade de fornecimento:
10.000 peças/peças por mês
Embalagem e entrega:
Embalagem: embalagem padrão e forte
Saco poli + caixa + caixa + palete
Porta:
Ningbo/Shenzhen/Xangai
Tempo de espera:

Quantidade (Peças)

1-1000

>1000

 Husa. Tempo (dias) 30 A ser negociado

 

 

 

 

 

 

 

 

Local de trabalho semicera

 

 

 

Local de trabalho de Semicera 2

 

 

 

Máquina de equipamento

 

 

 

Processamento CNN, limpeza química, revestimento CVD

 

 

 

Armazém Semicera

 

 

 

Nosso serviço

 

 

 

 

 

 

 

 

 

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