Bandeja de wafer MOCVD revestida com SiC anti-oxidação de alta pureza

Semícera é um fornecedor especializado em consumíveis de semicondutores avançados e relacionados a wafer. Estamos comprometidos em fornecer produtos inovadores, confiáveis ​​e de alta qualidade para a fabricação de semicondutores, a indústria fotovoltaica e outros campos de alta tecnologia relacionados.

Nosso portfólio de produtos inclui Revestido com SiC/TaC componentes de grafite e cerâmicas técnicas avançadas, cobrindo materiais como carboneto de silício (SiC), nitreto de silício (Si₃N₄) e óxido de alumínio (Al₂O₃) , entre outros.

Como fornecedor confiável do setor, a Semicera entende o papel crítico dos consumíveis nos processos de produção de semicondutores. A Semicera se dedica a fornecer produtos que atendam a rigorosos padrões de qualidade e apoiem o desempenho, a estabilidade e a eficiência exigidos em ambientes de fabricação avançados.

Descrição

Nossa empresa fornece Revestimento CVD SiC serviços na superfície de grafite, cerâmica e outros materiais de substrato avançados. Durante o processo, gases precursores contendo silício e carbono reagem em altas temperaturas para gerar carboneto de silício (SiC) de alta pureza, que é depositado na superfície do substrato para formar uma camada protetora de SiC densa, uniforme e fortemente ligada.

Este revestimento melhora significativamente as propriedades da superfície do material base, melhorando seu desempenho em ambientes de processo de alta temperatura, corrosivos e de alta pureza.

Disco MOCVD

Principais recursos

1. Resistência à oxidação em alta temperatura

    Desempenho estável sob condições de alta temperatura até 1600°C em atmosferas inertes ou controladas, evitando eficazmente a oxidação do substrato.

2. Alta pureza

    Produzido por deposição química de vapor (CVD) sob condições de cloração em alta temperatura, garantindo pureza ultra-alta e adequação para aplicações de grau de semicondutores.

3. Erosão e resistência ao desgaste

    Alta dureza e microestrutura densa proporcionam excelente resistência à erosão de partículas, desgaste mecânico e ataque de gases de processo.

4. Resistência à corrosão química

    Excelente resistência a ácidos, álcalis, sais e uma ampla gama de reagentes químicos orgânicos, garantindo estabilidade a longo prazo em ambientes agressivos.

5. Estrutura de revestimento densa e uniforme

    Superfície sem furos com forte adesão ao substrato, minimizando a geração de partículas e o risco de contaminação.

6. Longa vida útil

    Prolonga efetivamente a vida útil dos componentes de grafite e cerâmica em processos industriais de alta temperatura.

Principais especificações do revestimento CVD-SIC

Propriedades SiC-CVD
Estrutura Cristalina Fase β do FCC
Densidade g/cm³ 3.21
Dureza Dureza Vickers 2500
Tamanho do grão milímetros 2~10
Pureza Química % 99.99995
Capacidade de calor J·kg-1·K-1 640
Temperatura de Sublimação 2700
Força Felexural MPa (TR 4 pontos) 415
Módulo de Young Gpa (curvatura de 4 pontos, 1300°C) 430
Expansão Térmica (CTE) 10-6K-1 4.5
Condutividade térmica (W/mK) 300

 PEÇAS EPITAXIAIS MOCVD

 Equipamento

 sobre

Local de trabalho semicera Local de trabalho de Semicera 2

Máquina de equipamento 

 Processamento CNN, limpeza química, revestimento CVD

Armazém Semicera 

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