Susceptor de grafite revestido com SiC de alta pureza para processamento de wafer

O susceptor de portador de wafer de grafite revestido com CVD SiC de alta pureza da Semicera foi projetado para processos de alta temperatura de semicondutores, como MOCVD, CVD e crescimento epitaxial. É fabricado utilizando grafite de alta pureza como material de base, com um denso revestimento de carboneto de silício (SiC) depositado por deposição química de vapor (CVD).

O revestimento SiC oferece excelente proteção contra oxidação, corrosão química e contaminação por partículas, melhorando significativamente a vida útil e a estabilidade do processo em ambientes térmicos adversos.

Este produto garante suporte estável de wafer, transferência de calor uniforme e integridade estrutural em alta temperatura, tornando-o adequado para processos avançados de fabricação de semicondutores e LED.

Descrição

A cerâmica de carboneto de silício (SiC) exibe excelentes propriedades mecânicas à temperatura ambiente, incluindo alta resistência, alta dureza e alto módulo de elasticidade. Eles também oferecem excelente desempenho em altas temperaturas, como alta condutividade térmica, baixo coeficiente de expansão térmica e excelente rigidez específica, além de boa usinabilidade para aplicações ópticas e estruturais de precisão.

Devido a esta combinação única de propriedades, as cerâmicas de SiC são particularmente adequadas para componentes de precisão utilizados em equipamentos de fabricação de circuitos integrados, incluindo sistemas de litografia. As aplicações típicas incluem suportes/susceptores de SiC, barcos wafer, mandris a vácuo, placas de resfriamento de água, espelhos ópticos de precisão, grades e outras peças estruturais de cerâmica de alta precisão usadas em equipamentos de processamento de semicondutores.

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Vantagens

  • Substrato de grafite de alta pureza com revestimento CVD SiC
  • Excelente resistência à oxidação e corrosão até altas temperaturas
  • Camada protetora de SiC densa, uniforme e sem furos
  • Condutividade térmica superior para aquecimento uniforme de wafer
  • Baixa geração de partículas para ambientes de sala limpa
  • Forte adesão entre o revestimento SiC e a base de grafite
  • Resistência a altas temperaturas: uso normal em 1600 ℃
  • Adequado para operação em alta temperatura por longo prazo
  • Alta condutividade térmica: equivalente ao material de grafite
  • Alta dureza: dureza perdendo apenas para diamante, nitreto de boro

A Semicera pode fornecer aos clientes transportadores de wafer personalizados de materiais de silício e carboneto de silício para atender a diferentes aplicações. 

Dados típicos de Semicera

Propriedade Valor
Densidade 3,21 g/cc
Calor específico 0,66 J/g °K
Resistência à flexão 450MPa560MPa
Resistência à fratura 2,94MPa m1/2
Dureza 2800
Módulo de elasticidadeMódulo de Young 450 GPa430 GPa
Tamanho do grão 2 – 10 µm

 

perfil de companhia

Semicondutor Semicera é fornecedora de componentes cerâmicos semicondutores avançados, fornecendo materiais de alto desempenho e peças de precisão para aplicações semicondutoras e fotovoltaicas. A empresa possui capacidade em cerâmicas de carboneto de silício de alta pureza, incluindo carboneto de silício recristalizado (R-SiC), bem como revestimentos de carboneto de silício CVD (SiC).

Além disso, a Semicera também trabalha com uma linha de cerâmicas técnicas avançadas, como alumina (Al₂O₃), nitreto de alumínio (AlN), zircônia (ZrO₂) e nitreto de silício (Si₃N₄), para atender a diversos requisitos de aplicação.

Nossos principais produtos incluem discos de gravação de carboneto de silício, transportadores de barcos de carboneto de silício, barcos wafer de carboneto de silício (para processos fotovoltaicos e semicondutores), tubos de forno de carboneto de silício, pás cantilever de carboneto de silício, mandris de carboneto de silício, vigas de carboneto de silício, bem como revestimentos CVD SiC e revestimentos TaC.

Esses produtos são amplamente utilizados na fabricação de semicondutores e fotovoltaicos, incluindo crescimento de cristais, deposição epitaxial, gravação, embalagem, processos de revestimento e sistemas de forno de difusão.

Transporte

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