Pá de carboneto de silício de alta pureza

A pá de carboneto de silício de alta pureza Semicera foi projetada para aplicações avançadas de semicondutores, proporcionando estabilidade térmica e resistência mecânica superiores. Este SiC Paddle garante um manuseio preciso do wafer, tornando-o a escolha ideal para ambientes de alta temperatura. Contate-nos para dúvidas!

A pá de carboneto de silício de alta pureza Semicera é meticulosamente projetada para atender às rigorosas demandas dos modernos processos de fabricação de semicondutores. Este remo cantilever SiC se destaca em ambientes de alta temperatura, oferecendo estabilidade térmica e durabilidade mecânica incomparáveis. A estrutura SiC Cantilever foi construída para suportar condições extremas, garantindo um manuseio confiável do wafer em vários processos.

Uma das principais inovações do SiC Paddle é o seu design leve, mas robusto, que permite fácil integração em sistemas existentes. Sua alta condutividade térmica ajuda a manter a estabilidade do wafer durante fases críticas, como gravação e deposição, minimizando o risco de danos ao wafer e garantindo maiores rendimentos de produção. O uso de carboneto de silício de alta densidade na construção da pá aumenta sua resistência ao desgaste, proporcionando vida operacional prolongada e reduzindo a necessidade de substituições frequentes.

A Semicera dá forte ênfase à inovação, oferecendo um remo cantilever SiC que não apenas atende, mas também excede os padrões da indústria. Esta pá é otimizada para uso em diversas aplicações de semicondutores, desde a deposição até a gravação, onde a precisão e a confiabilidade são cruciais. Ao integrar esta tecnologia de ponta, os fabricantes podem esperar maior eficiência, custos de manutenção reduzidos e qualidade consistente do produto.

Propriedades físicas do carboneto de silício recristalizado

Propriedade

Valor típico

Temperatura de trabalho (°C)

1600°C (com oxigênio), 1700°C (redução do ambiente)

Conteúdo SiC

> 99.96%

Conteúdo Si grátis

< 0.1%

Densidade aparente

2,60-2,70g/cm 3

Porosidade aparente

< 16%

Força de compressão

&gt; 600MPa

Resistência à flexão a frio

80-90MPa (20°C)

Resistência à flexão a quente

90-100MPa (1400°C)

Expansão térmica @1500°C

4.70 10 -6 /°C

Condutividade térmica @1200°C

23 W/m·K

Módulo elástico

240 GPa

Resistência ao choque térmico

Extremamente bom

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Local de trabalho semicera

Local de trabalho de Semicera 2

Máquina de equipamento

Processamento CNN, limpeza química, revestimento CVD

Armazém Semicera

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