O transportador de processamento PSS para transmissão de wafer semicondutor da Semicera foi projetado para manuseio e transferência eficientes de wafers semicondutores durante os processos de fabricação. Feito de materiais de alta qualidade, este transportador garante alinhamento preciso, contaminação mínima e transporte suave do wafer. Projetados para a indústria de semicondutores, os transportadores PSS da Semicera melhoram a eficiência, a confiabilidade e o rendimento do processo, tornando-os um componente essencial em aplicações de processamento e manuseio de wafers.
Descrição do produto
Nossa empresa fornece serviços de processo de revestimento de SiC pelo método CVD na superfície de grafite, cerâmica e outros materiais, para que gases especiais contendo carbono e silício reajam em alta temperatura para obter moléculas de SiC de alta pureza, moléculas depositadas na superfície dos materiais revestidos, formando camada protetora SIC.
Principais características:
1. Resistência à oxidação em alta temperatura:
a resistência à oxidação ainda é muito boa quando a temperatura chega a 1600 C.
2. Alta pureza: feita por deposição química de vapor sob condições de cloração de alta temperatura.
3. Resistência à erosão: alta dureza, superfície compacta, partículas finas.
4. Resistência à corrosão: ácidos, álcalis, sal e reagentes orgânicos.
Principais especificações do revestimento CVD-SIC
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Propriedades SiC-CVD |
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Estrutura Cristalina |
Fase β do FCC |
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Densidade |
g/cm³ |
3.21 |
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Dureza |
Dureza Vickers |
2500 |
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Tamanho do grão |
milímetros |
2~10 |
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Pureza Química |
% |
99.99995 |
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Capacidade de calor |
J·kg-1·K-1 |
640 |
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Temperatura de Sublimação |
℃ |
2700 |
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Força Felexural |
MPa (TR 4 pontos) |
415 |
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Módulo de Young |
Gpa (curvatura de 4 pontos, 1300°C) |
430 |
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Expansão Térmica (CTE) |
10-6K-1 |
4.5 |
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Condutividade térmica |
(W/mK) |
300 |
