SiC-Coated Epitaxial Reactor Barrel

Semicera offers a comprehensive range of susceptors and graphite components designed for various epitaxy reactors.Through strategic partnerships with industry-leading OEMs, extensive materials expertise, and advanced manufacturing capabilities, Semicera delivers tailored designs to meet the specific requirements of your application. Our commitment to excellence ensures that you receive optimal solutions for your epitaxy reactor needs.

Descrição

Our company provides SiC coating process services on the surface of graphite, ceramics and other materials by CVD method, so that special gases containing carbon and silicon can react at high temperature to obtain high-purity Sic molecules, which can be deposited on the surface of coated materials to form a SiC protective layer for epitaxy barrel type hy pnotic.

 

sic (1)

sic (2)

Principais características

1. Resistência a oxidação de alta temperatura:
A resistência da oxidação ainda é muito boa quando a temperatura é tão alta quanto 1600 C.
2. High purity : made by chemical vapor deposition under high temperature chlorination condition.
3. Resistência à erosão: alta dureza, superfície compacta, partículas finas.
4. Resistência à corrosão: ácido, álcalis, sal e reagentes orgânicos.

Principais especificações do revestimento CVD-SIC

Propriedades SIC-CVD
Estrutura cristalina FCC β phase
Densidade g/cm ³ 3.21
Dureza Vickers dureza 2500
Tamanho de grão μm 2~10
Pureza química % 99.99995
Capacidade de calor J·kg-1 ·K-1 640
Temperatura da sublimação 2700
Força felexural MPa  (RT 4-point) 415
Young’ s Modulus Gpa (4pt bend, 1300℃) 430
Expansão térmica (CTE) 10-6K-1 4.5
Condutividade térmica (W/mk) 300

Local de trabalho semicera

Local de trabalho semicera 2

Máquina de equipamentos

Processamento da CNN, limpeza química, revestimento de CVD

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