Portadores de revestimento de SiC para gravação de semicondutores

Semicera Semiconductor Technology Co., Ltd. é um fornecedor líder de cerâmica semicondutora avançada. Nossos principais produtos incluem: discos gravados de carboneto de silício, reboques de barco de carboneto de silício, navios wafer de carboneto de silício (PV e semicondutores), tubos de forno de carboneto de silício, pás cantilever de carboneto de silício, mandril de carboneto de silício, vigas de carboneto de silício, bem como revestimentos CVD SiC e revestimentos TaC.

Descrição

Nossa empresa fornece serviços de processo de revestimento de SiC pelo método CVD na superfície de grafite, cerâmica e outros materiais, para que gases especiais contendo carbono e silício reajam em alta temperatura para obter moléculas de SiC de alta pureza, moléculas depositadas na superfície dos materiais revestidos, formando camada protetora SIC.

Principais recursos

1. Resistência à oxidação em alta temperatura:
a resistência à oxidação ainda é muito boa quando a temperatura chega a 1600 C.
2. Alta pureza: feita por deposição química de vapor sob condições de cloração de alta temperatura.
3. Resistência à erosão: alta dureza, superfície compacta, partículas finas.
4. Resistência à corrosão: ácidos, álcalis, sal e reagentes orgânicos.

Principais especificações do revestimento CVD-SIC

Propriedades SiC-CVD

Estrutura Cristalina Fase β do FCC
Densidade g/cm³ 3.21
Dureza Dureza Vickers 2500
Tamanho do grão milímetros 2~10
Pureza Química % 99.99995
Capacidade de calor J·kg-1·K-1 640
Temperatura de Sublimação 2700
Força Felexural MPa (TR 4 pontos) 415
Módulo de Young Gpa (curvatura de 4 pontos, 1300°C) 430
Expansão Térmica (CTE) 10-6K-1 4.5
Condutividade térmica (W/mK) 300
Local de trabalho semicera
Local de trabalho de Semicera 2
Máquina de equipamento
Processamento CNN, limpeza química, revestimento CVD
Nosso serviço

Boletim informativo

Aguardamos seu contato conosco