Semicera é uma empresa de alta tecnologia envolvida em pesquisa de materiais há muitos anos, com uma equipe líder de P&D e P&D e fabricação integradas. Forneça um barril de reator epitaxial revestido de carboneto de silício personalizado para discutir com nossos especialistas técnicos como obter o melhor desempenho e vantagem de mercado para seus produtos.
Na área de semicondutores, a estabilidade de cada componente é muito importante para todo o processo. No entanto, em um ambiente de alta temperatura, o grafite é facilmente oxidado e perdido, e o revestimento de SiC pode fornecer proteção estável para peças de grafite. No Semícera equipe, temos nosso próprio equipamento de processamento de purificação de grafite, que pode controlar a pureza da grafite abaixo de 5 ppm. A pureza do revestimento de carboneto de silício está abaixo de 0,5 ppm.
✓Alta qualidade no mercado chinês
✓Bom serviço sempre para você, 7*24 horas
✓Data de entrega curta
✓Pequeno MOQ bem-vindo e aceito
✓Serviços personalizados
Susceptor de Crescimento Epitaxia
Os wafers de silício/carboneto de silício precisam passar por vários processos para serem usados em dispositivos eletrônicos. Um processo importante é a epitaxia de silício/sic, na qual wafers de silício/sic são transportados sobre uma base de grafite. As vantagens especiais da base de grafite revestida com carboneto de silício da Semicera incluem pureza extremamente alta, revestimento uniforme e vida útil extremamente longa. Eles também possuem alta resistência química e estabilidade térmica.
Produção de chips LED
Durante o extenso revestimento do reator MOCVD, a base ou transportador planetário move o wafer do substrato. O desempenho do material base tem grande influência na qualidade do revestimento, o que por sua vez afeta a taxa de refugo do cavaco. A base revestida de carboneto de silício da Semicera aumenta a eficiência de fabricação de wafers de LED de alta qualidade e minimiza o desvio de comprimento de onda. Também fornecemos componentes adicionais de grafite para todos os reatores MOCVD atualmente em uso. Podemos revestir quase qualquer componente com um revestimento de carboneto de silício, mesmo que o diâmetro do componente seja de até 1,5M, ainda podemos revestir com carboneto de silício.
Campo Semicondutor, Processo de Difusão de Oxidação , etc.
No processo de semicondutores, o processo de expansão por oxidação requer alta pureza do produto, e na Semicera oferecemos serviços de revestimento personalizado e CVD para a maioria das peças de carboneto de silício.
A imagem a seguir mostra a pasta de carboneto de silício processada em bruto de Semicea e o tubo do forno de carboneto de silício que é limpo no 100 0 -nível livre de poeira sala. Nossos trabalhadores estão trabalhando antes do revestimento. A pureza do nosso carboneto de silício pode chegar a 99,99% e a pureza do revestimento sic é superior a 99,99995% .
